半导体中乙醇酸和氢氟酸混合作用

Q: 半导体中乙醇酸和氢氟酸混合作用 :

乙醇酸和氢氟酸混合可以用来清洗半导体表面。当这两种酸混合在一起时，它们会发生反应，产生氟化物，并形成一层薄膜，从而起到清洁的作用。乙醇酸有助于去除污垢，氢氟酸可以去除金属的氧化物。此外，乙醇酸也可以帮助去除金属的氧化物，使金属表面光滑。因此，乙醇酸和氢氟酸混合可以有效地清洁半导体表面，从而使半导体元件具有良好的性能。

半导体厂的工作有很多种，封装测试厂一般没有什么伤害。听说晶圆厂因为有腐蚀光刻等等工艺会有一些危害，不过一般这种工作薪水也高的。朋友在半导体封测厂待7年了，未见什么伤害。现在工厂的安全保护措施比较到位，如果有什么特别的伤害，在求职的时候可以咨询用工单位，一般有长时间工作有明确伤害的，会明确告知并且这种危险工种有高薪水和劳动补偿相关的条例。

氢氟酸

理化性质:氢氟酸是氟化氢气体的水溶液,为无色透明至淡黄色冒烟液体。有刺激性气味。分子式 HF-H2O。相对密度 1.15～1.18。沸点 112.2℃(按重量百分比计为38.2%)。市售通常浓度:约47% 。是弱酸。氟化氢的水溶液，其溶质的质量分数可达35.35%。无色溶液，有毒。最浓时密度1.14g/cm3，沸点393.15K（120℃）。发烟雾。具弱酸性，但浓时的电离度比稀时大而与一般弱电解质有别。腐蚀性强，对牙、骨损害较严重。对硅的化合物有强腐蚀性。应在密闭的塑料瓶内保存。用HF溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片（与HNO3的混酸）。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全解离。

氢氟酸能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃（二氧化硅），反应方程式如下：

SiO2(s) + 6 HF(aq) → H2SiF6(aq) + 2 H2O(l)

正因如此，它必须储存在塑料容器中（理论上讲，放在聚四氟乙烯做成的容器中会更好）。氢氟酸还是一种还原剂，如果要长期储存，不仅需要一个密封容器，而且容器中应尽可能将空气排尽。

工业制法：工业上用萤石（氟化钙 CaF2）和浓硫酸来制造氢氟酸。加热到250摄氏度时，这两种物质便反应生成氟化氢。反应方程式为：

CaF2 + H2SO4 → 2 HF + CaSO4

这个反应生成的蒸气是氟化氢、硫酸和其他几种副产品的混合物。在此之后氟化氢可以通过蒸馏来提纯。

用途:由于氢氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用来蚀刻玻璃，半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和丁烷的烷基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。氢氟酸也用于多种含氟有机物的合成，比如Teflon(聚四氟乙烯）还有氟利昂一类的致冷剂。

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