B、铜电极本身失电子,发生氧化反应,故B错误;
C、铜电极是电解池的阳极,接直流电源的正极,故C错误;
D、电解总反应:2Cu+H2O
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故选D.
要产生较多的空穴浓度就需依赖掺杂或缺陷。在纯净的硅晶体中掺入三价元素(如硼),使之取代晶格中硅原子的位置,就形成P型半导体。对于Ⅳ族元素,半导体(锗、硅等)需进行Ⅲ族元素的掺杂对于Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体(如砷化镓),常用掺杂Ⅱ族元素来提供所需的空穴浓度在离子晶体型氧化物半导体中,化学配比的微量偏移可造成大量电载荷流子,氧量偏多时形成的缺陷可提供空穴,Cu2O、NiO、VO2等均是该类型的P型半导体,且当它们在氧压中加热后,空穴浓度将随之增加.上述能给半导体提供空穴的掺杂原子或缺陷,均称受主。简单来说就是氧量偏多时形成的缺陷可提供空穴,因此Cu2O是P型半导体。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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