半导体酸排的一般浓度是多少

半导体酸排的浓度是多少在50到1000mg/m3之间。半导体企业废气分为酸性排气、碱性排气、有机废气、砷排和一般排气等。酸性废气采用碱液洗涤塔，废气与氢氧化钠吸收液进行气液两相充分接触吸收中和反应。

硫酸的用途：硫酸为化工之母，可分为工业硫酸、精制硫酸、电子级硫酸等；工业硫酸主要用于生产化肥；精制硫酸用于电池行业及化验试剂；电子级硫酸回用于半导体、光伏太阳能等微电子行业的蚀刻和清洗；从行业期刊杂志了解，河南安阳岷山生产工业酸、精制酸、电子级硫酸；当然是强酸，所谓强酸指的是在水中能完全电离酸，浓硫酸虽然基本上是硫酸分子，可是只要溶于水，那溶解的部分就是100%电离成氢离子和硫酸根离子，妥妥的在水中完全电离，当然是强酸了

市售的硫酸一般分为50%及98%,50%硫酸一般是工业硫酸, 是硫酸生产未经提纯的初期产物, 所含的不纯物杂质较多. 不常用在电镀槽.100%的硫酸并不是最稳定的, 沸腾时会分解一部分, 变为98.3%的浓硫酸, 所以浓缩硫酸也只能最高达到98.3%的浓度. 因此一般都使用98%CP级以上浓硫酸配置酸铜槽.除此之外, 50%硫酸加到镀槽理, 镀液的体积变化过大, 必须经常取出部分镀液, 以维持度亦高度, 如此一来就会增加硫酸铜的添加量.98%硫酸加水会放热, 通常是先将浓硫酸加入水中, 再加入硫酸铜, 等到槽液温度降至28度C以下再加入光剂.

---