半导体蚀刻机腔体是不是真空的

是真空的，半导体主要是镀膜工艺，镀膜工艺需要在真空环境中进行。真空腔体是保持内部为真空状态的容器，真空腔体的制作要考虑容积、材质和形状。真空腔体是为减少了半导体应用中真空腔的个数而研发的一种结构，其晶圆容量几乎不变。

真空腔体的内壁表面吸附大量的气体分子或其他有机物，成为影响真空度的放气源。为实现超高真空，要对腔体进行150—250℃的高温烘烤，以促使材料表面和内部的气体尽快放出。烘烤方式有在腔体外壁缠绕加热带、在腔体外壁固定铠装加热丝或直接将腔体置于烘烤帐篷中。

如果腔体是导体的话，是具有屏蔽作用的

因为腔体是个闭合面，腔内电场激发的电场线到达腔体内表面后为止

无法穿过对外电场产生影响，对应的腔体内表面就会产生与腔内电场等量的反电荷来。

如果腔体不是导体，那不存在屏蔽作用

导体球壳空腔内有一电荷,从一点移到另一点,移动前后,外表面的电荷分布变不变?改变了.因为表面产生的感应电荷与这个点电荷的位置有关.腔外电场分布变不变?也要变.现以球壳为例：点电荷先是放在球心,球壳内外部电荷均匀分布,外电场和一个点电荷没有球壳时的电场一样；现在点电荷移向靠近A一侧,则靠近A一侧的电荷分布多,别一侧少,电场线在球面外的分布也不均匀对称了,而是靠近AS一侧密,另一侧疏,好象放在现在位置的点电荷产生的电场.

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