单晶硅制备过程中会产生哪些污染物质？哪些可以较好的处理、哪些不能处理只能排入自然环境中？

单晶硅项目的环境影响主要有以下几方面： 废气：主要为正常生产时废气处理工序尾气、产品后处理和硅芯制备工序酸性废气等，主要废气污染物为HCl、NOx、氯硅烷、HF等。 废水：主要为正常生产时产品后处理和硅芯制备工序水洗废水、装置区设备/地坪冲洗水，以及循环水、脱盐水系统排出的假定清净下水。主要废水污染物为SS、COD、盐等。 固废：主要固体废弃物为原料制备和SiHCl3合成工序产生的硅粉、工艺废料处理工序产生的NaCl和SiO2固体废物、酸洗废液处理工序产生的Ca(NO3)2/CaF2固体废物。 噪声：主要产噪设备为机泵、压缩机和放空管答案补充：废气处理：一般用10%NaOH溶液洗涤，废气中的氯硅烷（以SiHCl3为例）和氯化氢与NaOH发生反应而被除去。含有NaCl、Na2SiO3的出塔底洗涤液用泵送入工艺废料处理工序。废液处理：一般分离提纯工序残液主要含有四氯化硅和聚氯硅烷化合物的液体以及装置停车放净的氯硅烷液体加入石灰乳液中和废液中的氯硅烷等和而被转化成无害的物质。经过规定时间的处理，用泵从槽底抽出含H4SiO4、CaCl2、H4SiO4、Na2SiO3的液体，送往工艺废料处理工序。废料处理：A．Ⅰ类废液处理来自氯化氢合成工序的废酸、液氯汽化工序的废碱、废气残液处理工序和废硅粉处理的废液等在此工序进行混合、中和后，经过压滤机过滤。滤渣（主要为SiO2、NaCl等）送渣厂堆埋。滤液主要为NaCl溶液，进行蒸发、浓缩和结晶。蒸发冷凝液循环利用（配置NaOH溶液），结晶固体氯化钠等外售或填埋。B．Ⅱ类废液处理来自硅芯制备工序和产品整理工序的废氢氟酸和废硝酸，用碱液中和，生成的氟化钠和硝酸钠溶液，进行蒸发、浓缩和结晶。蒸发冷凝液循环利用（配置NaOH溶液），结晶固体氟化钙和硝酸钠等外售或填埋。

（口）消耗掉的氢氧化钠的质量为：bg×口%=0.0bg

设该厂排放的废水他含HCl的质量为x

NaOH+HCl═NaCl+H20

70   36.二

0.0bg  x

70

0.0二g

=

36.二

x

解得：x=0.36二g

该厂排放的废水他含HCl的质量分数为

0.36二g

20g/uL×口g/cu3

×口00%=0.36二%

答：该厂排放的废水他含HCl的质量分数为0.36二%．

（2）设20ul废水消耗的氢氧化钙的质量为y

Ca（OH）2+2HCl=CaCl2+2H2O

77         73

y       20g×0.36二%

77

y

=

73

20g×0.36二%

解得：y=0.077g

则口00t废水消耗的氢氧化钙的质量为0.37t，需要资金77元；

设生成0.37t氢氧化钙需要氧化钙的质量为z

CaO+H2O═Ca（OH）2

二6       b0

z        0.37t

二6

z

=

b0

0.37t

解得：z=0.2二9t

需要资金为：0.2二9吨×口二0元/吨=3b.b二元

所以比较可以知道处理等质量的水，用氧化钙更便宜．

故答案为：（口）0.36二%；

（2）CaO粉末；便宜．

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