透射电镜主要应用领域有哪些

能够观察和研究金属及其合金的内部结构和晶体缺陷，成像及电子衍射的研究，把形貌信息与结构信息联系起来；能够进行动态观察，研究在温度改变的情况下相变的形核长大过程，以及位错等晶体缺陷在应力下的运动与交互作用。复型技术和薄膜样品的形貌观察。 纳米材料分析 现在纳米材料(陶瓷、金属及有机物)、纳米粉体、介孑L材料、纳米涂层、碳纳米管、薄膜 材料、半导体芯片线宽测量等领域已得到了广泛应用。即使一般材料研究，要得到更多显微结构信息的高分辨率照片，也需要场发射TEM。 晶体缺陷分析 A1：O，／SiC陶瓷中纳米SiC对基体A1，O，的强化作用体现在：(1)固定晶界(A，B)，控制晶体异常增大，并使晶界中液相强度增加；(2)钉扎位错强化基体(c，D)，复合陶瓷内裂纹传播的透射电子显微像和高分辨透射电子显微像，裂纹沿箭头所示的晶界和界面行进。从图4—31b可以看到在沿箭头行进的裂纹的前端的Si，N。晶粒内有晶格变形，这些形变导致能量损失，使复合陶瓷增韧。

该款电镜有两种配置：LIBRA 200 CS TEM以能量过滤型200KV LIBRA TEM为基础，做了物镜透镜的球差校正。通过使用校正器，可以采集分辨率0.7A的图像。许多应用将会得益于这个设计，尤其是半导体或太阳能电池的成像，铜铁合金晶界、核辐射对屏蔽材料造成的损坏等都能检测。在这些应用领域中，对于深度理解原子级别材料控制内含的物理或化学过程非常必要，同时还能确保设备中的功能性。CS校正器的另一个优势是当把加速电压减到80KV时，分辨率还低于1A。光束的损伤因此可以减少，这样就可以分析碳化纳米管等敏感材料了。LIBRA 200 STEM具有为聚光镜配备的校正器，可以用于在扫描模式下对分辨率远远低于1A和极高分辨率下样品化学分析的成像，尤其是EELS。校正后聚光镜允许探针尺寸减小到1A，同时增大强度。此外，独特的单色仪把能量扩散减小到0.15eV。这对于材料科学的基础研究尤其有利(尤其是纳米颗粒的化学分析)。一、德国蔡司LIBRA 200 FE电子显微镜产品简介1.LIBRA 200 FE 能量过滤式透射电子显微镜，配备了OMEGA型二阶校正式能量过滤器2.能量过滤式透射电子显微镜配备了独特的OMEGA型镜筒能量过滤器和库勒（Koehler）照明系统3.无油多级真空系统4.稳定度达到亚ppm5.基于Windows XP WinTEM图形用户界面二、蔡司电子显微镜LIBRA200 FE技术参数1.LIBRA 200 FE2.点分辨率：0.24nm3.能量分辨率：＜0.7eV4.加速电压：200kv5.放大倍率：8-1，000，000x6.电子q：热场发射电子q7.照明系统：Koehler（库勒）（平行束照明系统）8.真空系统：完全无油系统9. *** 作界面：基于Windows XP WinTEM

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