| A、四氯化硅（SiCl 4 ）中氯元素显-1价，设硅元素的化合价是x，根据在化合物中正负化合价代数和为零，可得：x+（-1）×4=0，则x=+4价；H 4 SiO 4 中氢元素显+1价，氧元素显-2价，设硅元素的化合价是y，根据在化合物中正负化合价代数和为零，可得：（+1）×4+y+（-2）×4=0，y=+4价；则由SiCl 4 转化为H 4 SiO 4 的过程中，硅元素化合价没有发生改变，故选项说法错误． B、原硅酸中氢、氧元素的质量比为（1×4）：（16×4）=1：16，故选项说法错误． C、原硅酸是由原硅酸分子构成的，不含氢分子，故选项说法错误． D、由题意，四氯化硅（SiCl 4 ）在空气中容易吸收水蒸气生成原硅酸（H 4 SiO 4 ）和HCl而产生白色烟雾，故四氯化硅应密封保存，故选项说法正确． 故选D． |
（1）使用外延炉等设备，进行气体纯化、四氯化硅精馏，在单晶片上生长单晶层；
（2）使用高温炉，在半导体晶体表面制备氧化层，使杂质由晶片表面向内部扩散或进行其他热处理；
（3）使用离子注入设备，将掺杂材料的原子或分子电离加速到一定的能量注入到晶体，并退火激活；
（4）使用气相淀积设备，在衬底表面淀积一层固态薄膜；
（5）使用光刻机在半导体表面掩膜层上刻制图形；
（6）使用机械加工等设备，对晶片加工形成器件台面，并对表面作钝化保护；
（7）使用电镀设备，对晶片、半导体器件、集成电路、电级材料的某些部位进行镀覆。
下列工种归入本职业：
外延工，氧化扩散工，离子注入工，化学气相淀积工，光刻工，台面成型工，半导体器件、集成电路电镀工
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