半导体材料的压阻效应

所谓半导体的压阻效应，是指当半导体受到应力作用时，由于载流子迁移率的变化，使其电阻率发生变化的现象。它有以下优点：

①灵敏度与精度高；

②易于小型化和集成化；

③结构简单、工作可靠，在几十万次疲劳试验后，性能保持不变；

④动态特性好，其响应频率为103～105Hz。

20年来，世界各国学者研究证明，锗无毒性，具有诱发自身干扰素、增加NK细胞活性、活化巨噬细胞、促进抗体产生及抗肿瘤、抗衰老生物作用。锗是制氧机，是抗癌剂，是“血液消毒剂”，可以清除机体中的废物，如：脂质过氧化物等。衰老的原因之一，就是体内废物积累，影响了血液的运行和输氧功能。清除了废物恢复了正常生理功能，自然就思维敏捷，行动灵活了。锗的功能归纳为以下三个方面：1、促进生理功能正常化。对高血压病人有明显的降压作用，且不会使血压低于正常值；可促进人体各种生理或生化功能恢复正常。2、治疗肿瘤和促进产生抗癌因子。3、提高人体免疫机能，防治多种疾病。对心脏病发作，不育症、预防孕妇流产，治疗烧伤面，对肝炎、肝硬化和老年骨质疏松症及各种疑难疾病均有令人满意的神奇效果。

金属锗对促进人体的血液循环百利而无一害，能最大程度的减少人们的身体疲劳，对缓解心血管疾病有很好的辅助治疗效果。锗对人体有极其特殊的神奇功能，被专家称为二十一世纪救命锗，是人类疾病的克星。锗保健机理：利用锗金属的半导体功能提升体温，从而促进血液循环，减轻疲劳，消除肿痛，血压调整，排除体内毒素，抵抗外来射线、预防癌症，抗衰老、减轻疲劳，自律神经失调症等等慢性病症。通过人体体温自动调节体内生物电流的混乱，可从体外进行电流调整的治疗。快速地将身体产生肩酸、腰痛、头痛、头晕、耳鸣、腹泻、便秘及眼部的疼痛等种种的障碍和病症及不快感的症状去除。风靡日本及东南亚的钛锗保健手链能由少量的能源(体温)即能有作用，这个特性使其能通过与人体的接触而起到保健作用。

其对人体的作用如下：1.活化生物电流，促进血液循环, 改善及预防身体的不适感 2.穴位的按摩温泉浴效果 3.代谢、免疫力恢复并提高身体的自然治愈力。锗元素有益健康，归纳起来有如下方面：

抗病毒、抑杀细菌

增加人体免疫力，抗衰老

刺激白细胞生长

调节胆固醇、调节血压

清除自由基，诱生Y-干扰素

增强巨噬细胞吞噬能力

排除体内毒素

改善自律神经失调症

促进神经细胞活化，缓和身体不适症状

"锗"九大功效：

· 消除痛症的作用

· 排毒作用

· 增强自然治愈能力的作用

· 脱氢作用

· 供氧作用(替代氧气作用)

· 半导体作用及阴离子作用

· 增强人体免疫力作用

· 诱发干扰素生成作用

· 促进内啡呔生成的作用

锗(Ge32)的三大效果

· 产生负(阴)离子　

中和人体正(阳)离子,抗氧(老)化.增强免疫力.加强新陈化谢，活化人体细胞及人体各器官的功能

· 瞬间增加体温

依据日本科学家研究，戴上钛锗腕环之后，人体温度在15分钟后可以上升一度，可以活血气顺，调节正常体温，对于血管病病及怕冷群众有良好的改善作用

· 穴道指压功能

研究与临床实验证明，锗运用在穴道指压的作用时，其作用达到磁石的三倍以上可以舒缓压力及疼痛，让配戴者常保精神气足的状态。

科学家指出，在人体机能如物质代谢、能量转换、抗病能力，心血管、神经、生殖等功能中，都有锗的参与。锗在传统的抗衰老中药如人参、灵芝、枸杞中含量很高，且认为人参的抗衰老和药理作用，与锗含量呈相关关系。20世纪70年代以后，随着研究结果的不断明朗化，有机锗崭露头角，成为“震动世界医学界的新星”。从此人们不再把锗看成是一种单纯的半导体材料。锗可抗病毒、抑杀细菌，增强人体免疫力，刺激白细胞，调节胆固醇，为人类增强健康水平，防御疾病作出贡献。

锗是第32号元素，原子量为72．59。锗早就被用于现代通讯、电子计算机、宇宙开发、能源利用等许多高技术领域，现在发现，锗元素有与体内氢离子结合的本领，以尿或汗液的方式排出，从而增强了体内氧的供应，有利于加速新陈代谢和延缓细胞的衰老。

早在千年以前，就有灵芝能起死回生的神话故事，《白蛇传》中白娘子为他的丈夫许仙去昆仑山盗灵芝，给已经吓死的许仙灌服了灵芝汤后，许仙就复活了。现在研究认为，灵芝之所以灵，可能与其含有丰富的锗有关。锗在人体总量约20毫克，每天可从食物中摄人约1.5毫克，但每天从尿中排出1.4毫克，粪便中排出0.1毫克，因此在平常基本上是“收支平衡”。

锗的生理功能还有很多。使实验动物寿命延长是最有力的抗衰老指标。实验证明，氨基酸锗氧化物能延长果蝇的平均寿命和最高寿命。有机锗对机体的抗老化代谢产物有作用，故有利于抗衰老。

即使有机锗的用量很小，也能增强机体的能量产生。它可提高氧的利用率，可使缺氧、受损伤的细胞重新恢复它们对体内平衡的控制。有机锗的抗癌基础和临床研究，国外已有大量报道。有机锗能诱导细胞分泌白细胞介素和干扰素，刺激宿主对癌症的防御能力。

有机锗还具有较高的增白美容保青春作用，可制成各种护肤用品，对孕期或日照引起的异常色素沉着斑具有清除作用，还可治疗痤疮、湿疹和腋臭。锗与其他微量元素一样，适量对人体有益，过量则有危害。 按照麦克斯韦的电磁理论，磁体可以改善睡眠质量也有抗疲劳的作用

离子注入是离子参杂的一种。随着VLSI器件的发展，到了70年代，器件尺寸不断减小，结深降到1um以下，扩散技术有些力不从心。在这种情况下，离子注入技术比较好的发挥其优势。目前，结深小于1um的平面工艺，基本都采用离子注入技术完成掺杂。离子注入技术已经成为VLSI生产中不可缺少的掺杂工艺。………离子注入具有如下的特点①可以在较低温度下（400℃）进行，避免高温处理。②通过控制注入时的电学条件（电流、电压）可以精确控制浓度和结深，更好的实现对杂质分布形状的控制。而且杂质浓度不受材料固溶度的限制。③可选出一种元素进行注入，避免混入其他杂质。④可以在较大面积上形成薄而均匀的掺杂层。同一晶片上杂质不均匀性优于1％，且横向掺杂比扩散小的多。⑤控制离子束的扫描区域，可实现选择注入并进而发展为一种无掩模掺杂技术。…………离子注入技术应用领域2．1 离子注入应用于金属材料改性离子注入应用于金属材料改性，是在经过热处理或表面镀膜工艺的金属材料上，注入一定剂量和能量的离子到金属材料表面，改变材料表层的化学成份、物理结构和相态，从而改变材料的力学性能、化学性能和物理性能。具体地说，离子注入能改变材料的声学、光学和超导性能，提高材料的工作硬度、耐磨损性、抗腐蚀性和抗氧化性，最终延长材料工作寿命。离子注入提高工模具的耐磨性能、金属样品的抗疲劳性以及金属表面耐腐蚀性2 离子注入机应用于掺杂工艺在半导体工艺技术中，离子注入具有高精度的剂量均匀性和重复性，可以获得理想的掺杂浓度和集成度，使电路的集成、速度、成品率和寿命大为提高，成本及功耗降低。这一点不同于化学气相淀积，化学气相淀积要想获得理想的参数，如膜厚和密度，需要调整设备设定参数，如温度和气流速率，是一个复杂过程。上个世纪70年代要处理简单一个的ｎ型金属氧化物半导体可能只需6～8次注入，而现代嵌入记忆功能的CMOS集成电路可能需要注入达35次。技术应用需要剂量和能量跨越几个等级，多数注入情况为：每个盒子的边界接近，个别工艺因设计差异有所变化。随着能量降低，离子剂量通常也会下降。具备经济产出的最高离子注入剂量是1016/cm2，相当于20个原子层。3 在SOI技术中的应用由于SOI技术（Silicon-on-Insulation）在亚微米ULSI低压低功耗电路和抗辐照电路等方面日益成熟的应用，人们对SOI制备技术进行了广泛探索。1966年Watanabe和Tooi首先报道通过O＋注入形成SILF表面的Si氧化物来进行器件间的绝缘隔离的可能性。1978年，NTT报道用这项技术研制出高速、低功耗的CMOS链振荡电路后，这种注O＋技术成为众人注目的新技术。从而注氧隔离技术即SIMOX就成了众多SOI制备技术中最有前途的大规模集成电路生产技术。1983年ＮＴＴ成功运用了SIMOX技术大批生产了COMSBSH集成电路；1986年ＮＴＴ还研制了抗辐射器件。这一切，使得NTT联合EATON公司共同开发了强流氧离子注入机（束流达100mA），之后EATON公司生产了一系列NV－200超强流氧离子注入机，后来Ibis公司也研制了Ibis－1000超强流氧离子注入。从此SIMOX技术进入了大规模生产年代。到了上世纪90年代后期，人们在对SIMOX材料的广泛应用进行研究的同时，也发现了注氧形成的SOI材料存在一些难以克服的缺点，如硅岛、缺陷，顶部硅层和氧化层的厚度不均匀等，从而导致了人们开始着眼于注氢和硅片键合技术相结合的智能剥离技术即SMART CUT技术的研制，上世纪90年代末期，H＋离子注入成了新的热门话题。目前虽无专门的H＋离子注入机，但随着SMART CUT工艺日趋成熟，不久将会出现专门的H＋离子注入机。除了半导体生产行业外，离子注入技术也广泛应用于金属、陶瓷、玻璃、复合物、聚合物、矿物以及植物种子改良上。

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