锅内发生氧腐蚀主要是化学腐蚀？

锅内发生吸氧腐蚀，是铁合金内在潮湿的环境下，发生的电化学腐蚀的一种，铁，碳，和盐水形成微小原电池，铁转化成亚铁离子，继而被氧气氧化成三价铁，结合氧气转化成的氢氧根，形成氢氧化铁，它不稳定，分解为三氧化二铁，铁锈由此形成的。

石英砂与焦炭高温下反应，可制成半导体材料硅：SiO2＋2C＝（高温）2CO＋Si↑

1、硅的存在

硅的化学符号是Si，旧称矽。有无定形硅和晶体硅两种同素异形体，属于元素周期表上第三周期，IVA族的类金属元素。在地壳中，它是第二丰富的元素，仅次于氧。

2、硅的物理性质

晶体硅为灰黑色，无定形硅为黑色。晶体硅属于原子晶体，硬而有金属光泽。硅晶体中没有明显的自由电子，能导电，但导电率不及金属，且随温度升高而增加，具有半导体性质。

3、硅的化学性质

（1）与单质反应：

Si + O₂ =加热= SiO₂

Si + 2F₂ == SiF₄

Si + 2Cl₂ =高温= SiCl₄

（2）高温真空条件下可以与某些氧化物反应：

2MgO + Si=高温真空 =Mg(g)+SiO₂（硅热还原法炼镁）

（3）与酸反应：

只与氢氟酸反应：Si + 4HF == SiF₄↑ + 2H₂↑

（4）与碱反应：Si + 2OH⁻+ H₂O == SiO₃²⁻+ 2H₂↑（如NaOH，KOH）

4、硅的制备

SiO2+2C=2CO+Si（高温,得到粗硅）

制纯硅：Si+2Cl2=高温=SiCl4

SiCl4+2H2=高温=Si+4HCl

高温工作的半导体材料需要满足五个基本条件：

1.外加温度忽高忽低时具备稳定性功能；

2.内部温度对物质特性表现持续稳定；

3.具备可制造性；

4.可量产；

5.具备运用的利润。

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