光刻板正版和负版区别

光刻板正版和负版的区别：

光刻正版是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。

负版是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。

原始版只有30天试用期吧，破解版本可以无限期使用。拓展：它是一种商业模式。IDM商业模式是国际整合元件制造商模式。IDM厂商的经营范围涵盖了IC设计、IC制造、封装测试等各个环节，甚至也会延伸到 下游电子终端。采用这一模式的一般有美国、日本和欧洲半导体产业。比较典型的厂商有Intel、三星、TI（德州仪器）、东芝、ST（意法半导体）等。

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