半导体公司工作环境(学术问题)

半导体公司工作环境(学术问题),第1张

1,集成电路的加工是需要在极高清洁度的无尘环境中实现,这是因为在纳米级的加工精度上,一粒灰尘的面积相对于电路来说也是巨大的,而每个被灰尘污染的电路都会导致不能正常工作。

2,集成电路的加工,精度要求最高的是基于掩膜的光刻工序,这个工序是在特定波长的光照下实现的,普通的光线会影响光刻的效果,导致沟道不规则而导致电路性能不良。

久以来,「光学薄膜制程技术」一直是光学领域中不可忽略重要基础技术,而且品质要求也越来越高,加上这五年来在资讯显示及光通讯科技快速发展之下,不论是在显示设备中分、合色元件,又或是在光通讯主、被动元件开发制程上,薄膜制程技术都是不可忽略重要技术。而在显示器技术、光通讯技术、生医光电技术…等,在全方位薄膜技术有其决定性的影响。本文专访国立中央大学光电科学研究所暨薄膜中心主任李正中博士,以多年来在光学显示器相关镀膜、各种类光学薄膜之光学特性及非光学特性研究经验与其发展技术,一同探讨光学薄膜制程技术是如何成为产业中,各个产业应用的最佳绿叶技术,求得理论及实务并重。

■光学薄膜与镀膜技术的重要性

从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用;比方说,平时戴的眼镜、数位相机、各式家电用品,或者是钞票上的防伪技术,皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸。倘若没有光学薄膜技术作为发展基础,近代光电、通讯或是雷射技术发展速度,将无法有所进展,这也显示出光学薄膜技术研究发展重要性。

一般来说,要使用多层薄膜时,必须根据设计者需求,藉用高低折射率薄膜堆叠技术,做为各类型光学薄膜设计之用,才能达到事先预期后评估的光学特性。比方说:抗反射镜、高反射镜、分光镜、截止滤光镜、带通滤光镜、带止滤光镜等;而在电脑分析软、硬体发展健全的今日,不仅使光学薄膜在设计上变得更为便捷,且光学薄膜技术研究发展也将更为快速。

就目前设计端而言,若以合理特性范围来考量,光学薄膜制作门槛已经降低不少,技术困难点也很少出现,通常只要在合理要求范围之内,设计者不难发出适用的光学多层膜结构。不过,光学薄膜最主要关键问题,在於薄膜镀膜工艺技术的改善?这关系到要如何精准地掌控每一层薄膜厚度与折射率,才能获得预期光学性质和机械特性,甚至在制程量产化及成本降低都有其助益。另外,包括:薄膜材料开发(包括:材料测试、化学纯度、材料创新、材料型式)、先进镀膜技术开发(包括:真空镀膜机、监控技术)及薄膜的量测分析(膜层设计、厚度误差分析技巧)等,都是光学薄膜工程上所要面对到的首要课题。

不过,在光学薄膜技术应用上,由於技术本身被归纳为广泛应用性质,不容易以某一或单一产品作为载具并加以区分;因此,在光学薄膜产品技术,最终应用则是在众多光学元件上,若以光学元件各个相关应用市场来探究,更可看出主要附加价值与相关性。

■光学薄膜技术在显示器产业中的应用

对於显示器画面尺寸及影像品质及辐射量多寡的要求日渐严苛,过去显示器尺寸也从14吋、20吋、29吋、32吋,甚至更大尺寸,也从CRT萤幕发展到LCD萤幕或投影萤幕。因为超过40吋CRT显示器动辄超过100公斤、厚度也超过35吋;因此,在一般CRT显示器生产过程中,40吋以上就是一个技术瓶颈。目前要打破尺寸瓶颈技术,就是利用投影技术来达成,藉用光学技术放大显示器尺寸,使其机身厚度变薄,体积变得更为轻盈。

▲对於投影机产业而言,必须快速对应到灯源进步程度,以及更高亮度、对比度、体积更小、重量更轻…等要求。(罗清岳摄影)

揭开投影机显示技术中重要光学关键零组件,就像是光学引擎、光阀、偏光转换器等开发技术,对投影显示技术中的影像品质有著关键性影响。举例来说,在光学引擎的偏振分光稜镜便是光学引擎中,不可或缺的光学元件,其可见光波要求在420∼680nm范围(入射角范围约30°之内),才能大幅度地分开p偏振光及s偏振光,并维持p偏振光穿透率Tp>90%以上及消光比达到Tp/Ts>500以上,这是因为消光比越高及Tp穿透率也就越高,影像对比度才会更好,色彩一致性越高,获得较高的光能利用率。

在光学引擎中要用到大量偏振、分光及滤光元件,这些都需要仰赖光学薄膜、镀膜技术来实现,不过这些元件镀膜技术要求层级很高,导致生产困难度加大。一般来说,目前发展投影机技术,包括:LCD、DLP(MEMS)、LCOS数种发展技术。影像成形技术,则分为穿透式LCD及反射式DLP、LCOS,而在投影机系统中,便需要运用光学薄膜滤光片新的开发技术,藉以达到最佳影像品质。

对於投影机产业而言,为了因应灯源技术,以及更高亮度、对比度、体积更小、重量更轻等要求,对於其中所使用的各式光学元件都必须有相对应解决之道。而为了达到需求,这对光学薄膜技术来说,已不能单纯使用传统的整数膜堆设计来完成,非整数膜堆设计必要时也要能被大量采用。不过,对非整数膜堆技术而言,除了先天上设计的困难性之外,在实际的制镀上也有相当的困难性。另一方面,对於环境测试要求更为严格,在滤光片材料选用则应更为审慎,基板选择上也要考虑到整体滤光片应力行为…等等,这都在先前设计之初就必须被纳入考量。

■光学薄膜技术也在奈米技术上有其助力

奈米材料及技术因应科技发展速度,不断受到重视,归究其主要原因在於奈米材料应用广泛,加上以未来层面来考量。一方面是因为现有理论基础不足涵盖奈米材料完整发展;另一方面来自物理、化学、生物医药领域的冲击性与整合性,提供极为有力的助益。其中,在物理方面著重於奈米制造、材料检测技术与原子 *** 纵;而在化学方面则提供由小而大、由下而上的组装方式、各式化学方法合成奈米材料;生物领域主要提供是仿生概念及生物制造工程的奈米材料合成技术。

回过头来看光学薄膜技术制程,过去的光学薄膜技术已经进入成熟化地步,也受到广泛的应用。也曾经有专家提出,再过五年之后,以「矽」为主要材料的微米级电子电路技术将有可能面临到发展之末。然而,在光学薄膜在奈米尺度下的特性,也是因为这几年中,由於制程技术进步后,才逐渐受到业界所探讨。这是因为一旦光子元件想要在更小、更快且低耗能线路上与电子线路相互呼应,则光子的 *** 控必须在空间、速度及能量上,远比目前微小上百倍情况下才能顺利进行。因此,奈米光波导(nanophotonic waveguide)将有可能成为代替部分矽及其它半导体材料的最佳材料,则能有效开发出远比目前传输速度及密度高达50∼100倍以上;另外,在省能效益方面则高出50∼100倍通讯及运算装置。如此一来,光学薄膜技术在奈米级尺寸即将到来的催促之下,其技术研究将成为非常重要的关键因素。

目前在积体光学技术所能制造的光学元件,大都是以电光、声光调变器、光分离器、分工/解分工器…为主,倘若要做到全光式或者多元件的积体光学元件,不可或缺的便是「奈米光学薄膜元件」。这当中最受到关注的就是,结合薄膜技术及微影技术(Optical Lithography)所形成的光子晶体(photonic crystals),使其带有周期性的介电质分布结构特性,藉以提高解析度转而制作更微小特徵尺寸,才能拥有在相同单位面积上,有更高密度下可容纳更多的电晶体。

一般光子晶体依照光子能带的方向特性可分为两类,分别为讯号传递具有方向性(Uni-directional)、(Omni-directional);在Uni-directional光子能带仅能够使某特定传播方向的光波被抑制其传播特性,而omni-directional光子能带能够使各个传播方向上的光模态皆被抑制其传播特性。因此,可藉由结构上的设计使光皆被反射,产生零能量穿透。除了光子晶体外,光学薄膜在奈米等级的尺度下,在金属薄膜上制作奈米级的周期性孔洞时,当入射光的光波长大於孔洞的周期时,入射的零阶光有和平常不一样的高穿透率,并且没有绕射现象的发生。此类光学元件主要应用金属之表面电浆特性,产生完全不同於传统光学理论的特性,才会别於光子晶体特性下的一种新型态及表面电浆元件。

上述两项不同类型元件,不论是光子晶体还是表面电浆元件,都需要奈米等级下进行精密微影、蚀刻技术及光学薄膜技术。因此,若以光学薄膜技术为主要发展基础,再搭配上微影制程技术,及薄膜特性分析技术等,最终目标便能达到充分了解光学薄膜在奈米尺寸等级下,各项分析特性及组成结构,以提供奈米光学薄膜技术应用在积体光学领域中地发展与应用。

▲中央大学成立的薄膜技术中心展示多项薄膜产品应用技术,薄膜应用随处可见,各式各样的薄膜都有其功用。 (罗清岳摄影)

■非主要明星产业 但其重要性不可忽略

可以这麼说:「光学薄膜技术并不是一项亮丽的技术显学」。但…却是台湾产业发展过程中不可缺少的其中一环,不仅左右产品优劣也影响产品效能。光学薄膜技术给人的感觉是「透明的」、「薄薄的」,但这当中的学问无法只用言语就能概以全数。虽然光学薄膜应用多属绿叶技术,只是个辅助性质角色。不过,一旦有了光学薄膜技术,不仅使产品功能更加显而易见,并能提升它的附加价值。

就像一般所配载的眼镜,运用了光学薄膜的镀膜技术,便能降低眼镜反射率,使它具有更高穿透率,而抗紫外线镜片及抗红外线镜片,也都是光学薄膜技术的应用。而在光通讯、显示器、照明、节能…等方面,也可以应用光学薄膜技术,例如,尖端技术基础的研究及应用,则需要较小、较为精致型元件,使产品变得更轻薄短小。换句话说,只要有运用到光学元件之处,都可以利用光学薄膜改善它的品质和技术,使产品变得更完善,并与生活息息相关。

光学薄膜的技术与理论虽然起源已久,然而随著相关科技环境迅速提升与成长,如何使光学薄膜技术得以创新,将是从事光学薄膜技术者尚须追求的目标。目前,台湾厂商专注於OEM以下阶段技术及塑胶镀膜厂商,但在光学品质可靠性上,仍必须持续提升。至於OEM以上等级的光学镀膜技术,例如:雷射镜片虽亦有厂商投入研发,只在量产上则仍不易达到。因此,台湾厂商一旦能尽早於新的光学薄膜技术开发方面大力投入,将有助於在整体光学元件市场上取得重要的契机,并建立完整光学产业结构根基。

参考资料:李正中《薄膜光学与镀膜技术》、中央大学薄膜技术研究中心、J. Mort and F. Jansen《Plasma Deposited Thin Films》、《Thin Film Processes》。

▲李正中博士表示,目前各个光电设备及光学仪器,都跟光学薄膜技术有其关连性;举凡光纤通讯、生物晶片、光显示器、人造卫星、太空遥测系统、半导体雷射、微机电系统、光资讯储存及各式光学元件…等。(罗清岳摄影)

和平号是苏联/俄罗斯的第3代空间站,亦为世界上第一个长久性空间站(设计成在轨多模块组装,站上长期有人工作)。和平号空间站的轨道倾角为51.6度,轨道高度300~400千米。自发射后除3次短期无人外,站上一直有航天员生活和工作。

和平号核心舱于1986年2月20日发射,它提供基本的服务、航天员居住、生保、电力和科学研究能力。联盟-TM载人飞船为和平号接送航天员,进步-M货运飞船则为和平号运货。�和平号核心舱共有6个对接口,可同时与多个舱段对接。到1990年,苏联只为和平号核心舱增加了3个对接舱:即1987年与核心舱对接的量子-1(载有望远镜和姿态控制及生命保障设备)、1989年对接的量子-2(载有用于舱外活动的气闸舱、2个太阳电池翼、科学和生命保障设备等)、1990年对接的晶体舱(载有2个太阳电池翼、科学技术设备和一个特别的对接装置,它可与美国航天飞机对接)。俄罗斯自1995年起发射了3个舱,先后与和平号对接,这3个舱是:1995年发射的光谱号(载有太阳电池翼和科学设备)和一个对接舱(停靠在晶体号特别对接口上,用于与航天飞机对接)以及1996年4月26日发射的和平号的最后一个舱体--自然号(载有对地观测和微重力研究设备)。自此和平号在轨组装完毕。全部装成的和平号空间站全长87米,质量达123吨(如与航天飞机对接则达223吨),有效容积470立方米。

作为美俄国际空间站合作计划的一部分,美国航天飞机与和平号空间站实施了交会和对接,在轨对接期间,进行了设备和航天员的交换。1995年2月6日发现号航天飞机与和平号在太空交会,两航天器相距仅11.3米。同年6月29日,和平号空间站与亚特兰蒂斯号航天飞机在轨首次对接成功,美俄航天员在太空相逢,联合飞行了5天。美国女航天员露西德1996年3月22日在航天飞机第3次与和平号对接后进入空间站,到1996年9月26日才返回地面,在太空度过了188天,创造了妇女太空飞行新记录。在这项合作中,航天飞机与和平号共进行了9次对接,为建造和运营国际空间站积累了经验。

1999年1月26日,俄罗斯“和平号”空间站的宇航员与美国“奋进号”航天飞机的宇航员聚集在“和平号”空间站舱内合影。

和平号空间站原设计寿命5年,到1999年它已在轨工作了12年多,除俄罗斯的航天员外,还接待了其他国家和组织的航天员,他们在和平号空间站上取得了丰硕的研究成果。但由于和平号设备老化,加之俄罗斯资金匮乏,从1999年8月28日起,和平号进入无人自动飞行状态,准备最终再入大气层焚毁,完成其历史使命。它的完成体现了前苏联当时强大的经济实力和航天业的实力。

[编辑本段]和平号空间站的辉煌生涯

20世纪70年代初到80年代中期,前苏联曾发射了两代7艘礼炮号空间站。它们采用舱段式结构,由几个不同形状和尺寸的舱段组成,所有的仪器设备只能装在舱段内和舱段外表面。这种设计思想使礼炮号空间站外形简单,容易实现,所有硬件少,造价较低,可以用质子号运载火箭一次发射入轨。它除了有投入工作迅速的优点外,不需要在轨道上对接组合或装配大型系统的复杂过程,因而风险和难度都比较小,安全性较高。但它的缺点也十分明显,规模小,不易扩展,从而大大限制了有效载荷的规模。由于所有仪器设备只能布置在舱段内,因此很难合理地布置站上的分系统和有效载荷,不同性质的载荷不能做到相互独立,不可避免地造成不期望的影响。而且由于各种载荷的安装十分紧凑,也使得出现重大故障时系统很难修理或更换。基于上述原因,前苏联又发展了第三代和平号空间站。

和平号空间站计划正式制定是在1976年。它采用组合式积木结构。空间站主体仍然是一个舱段结构。它的总长13.13米,最大直径4.2米,总重20.4吨。它由4个基本部分组成:球形增压转移舱,直径2.2米,上面装有5个直径0.8米的对接窗口,径向1个,侧部对称4个;增压工作舱,这是空间站的主体,总长为7.67米,两个柱形段的直径分别为2.9米和4.2米,不增压服务-动力舱,位于空间站尾部,除装有主发动机和推进剂外,还装有天线、探照灯、无线电通信天线等;增压转移对接器,长1.67米,直径2米,位于服务-动力舱中央,提供第6个对接通道。1986年2月20日凌晨,一枚三级质子号运载火箭将和平号空间站主体发射升空。1986年3月13日,苏联发射了联盟T-15飞船。宇航员基齐姆和索洛维耶夫驾驶飞船于15日同和平号对接,并成为新空间站的第一批乘员。他们的主要任务是对空间站进行全面检查。1987年2月5日,联盟TM-2发射,两名宇航员是罗曼年科和拉维金。1987年3月31日,苏联用质子运载火箭发射了第一个实验舱——量子1号,开始了和平号积木空间站的正式组装工作。

中期量子专业实验舱共有5个,分别是天文物理舱、服务舱、晶体舱、光学舱和自然舱,用于天文观测、对地观测、材料实验与加工、生物医学实验等。量子1号发射后于4月12日同和平号硬对接成功。其余各舱分别于1989年11月26日、1990年5月31日、1995年5月20日、1996年4月23日发射,它们与和平号对接后,组装工作全部完成。完整的和平号空间站全长达87米,质量达123吨,有效容积470立方米。它作为世界上第一个长期载人空间站,自诞生之日起,共在轨道上运行了15载,大大超过了5年的设计寿命。它绕地球飞行8万多圈,行程35亿公里,进行了2.2万次科学实验,完成了23项国际科学考察计划。共有31艘联盟号载人飞船、62艘进步号货运飞船与其实现对接,还9次与美国航天飞机对接和联合飞行。宇航员从这座“人造天宫”进行了78次太空行走,舱外活动的总时间达359小时12分钟。先后有28个长期考察组和16个短期考察组在上面从事考察活动,共有12个国家的135名宇航员在空间站上工作。宇航员在空间站上进行了大量生命科学实验、空间材料学和医学实验,取得极为宝贵的成果和数据。拍摄了许多恒星、行星的照片,进行了基本粒子和宇宙射线的探测,大大扩展了人类对宇宙的认识,还探索了从太空预报地震、火山爆发、水灾及其他自然灾害的可能性。

中期和平号空间站创下了多个世界第一:它是在太空工作时间最长、超期服役时间最长、工作效率最高、接待各国宇航员最多的太空站,俄罗斯宇航员波利亚科夫创造了单人连续在太空飞行438天的最高纪录。此外,和平号空间站还在试验人造月亮、空间商业化等方面进行了许多有益的探索,获得了大量数据及具有重大实用价值的成果,为开发利用太空和人类在太空长期生活积累了丰富的经验。在医学领域,研究了在太空使用的药物处方、宇航员飞行后的体力恢复方法。在生物学领域,研究了蛋白质晶体生长、高效蛋白质精制、特殊细胞分离、特种药品制备等。在材料和空间加工领域,进行了600多种材料实验,制造了半导体、玻璃、合金特35种材料。在对地观测方面,发现了10个地点可能有稀有金属矿藏,117个地点可能有油脉存在。在天文观测方面也做出了许多重大发现。此外,还开发了大量空间新技术。

中期近几年,和平号一直在与自己的工作寿命相抗争。空间站的中央计算机、蓄电池等电子设备严重老化;空间站外表伤痕累累;太阳能电池供电已不正常;空间站内部化学腐蚀严重。据统计,15年来和平号共发生了约1500次故障,其中近100处故障一直未能排除。和平号用遍体鳞伤来形容毫不过分,它日渐显露出工作寿命即将终结的迹象,再无回天之力。2001年1月5日,俄政府总理卡西亚诺夫签署了结束和平号空间站工作的政府命令,准备结束它辉煌的历史使命。

中期2001年3月20日,和平号空间站飞过了距地220公里的太空轨道。俄罗斯地面飞行控制中心的专家在对和平号的轨道参数、飞行姿态等信息进行综合分析之后,接连发出了两个制动信号,启动了与和平号对接的进步M1-5号货运飞船的发动机。在发动机的反推制动下,和平号的飞行速度陡然下降,巨大的空间站开始快速向下飘落,并逐渐进入了预定的坠落轨道。在和平号绕地球飞行的最后两圈内,地面专家发出了最后一个制动信号。刹那间,重达137吨的庞然大物脱离地球轨道,向着南太平洋轰然坠落……这便是俄罗斯航天专家为和平号精心设计的大结局。

和平号是载人空间站研制与运行的一个重要里程碑。人类在和平号计划中所掌握的太空舱建造、发射、对接技术,载人航天及太空行走技术,太空生命保障技术,航天医学、生物工程学、天体物理学、天文学知识,以及商业航天开发经验,都正在或将在国际空间站计划及未来的太空城和月球、火星基地规划中发挥不可替代的作用。和平号已经大大地超额完成了任务,它的光辉业绩将永载史册。


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