半导体器件中iso区是什么

半导体器件中iso区是浅沟道隔离。能实现高密度的隔离，深亚微米器件和DRAM等高密度存储电路。在器件制作之前进行，热预算小，STI技术工艺步骤类似LOCOS，依次生长SiO2淀积Si3N4涂敷光刻胶，光刻去掉场区的SiO2和Si3N4。利用离子刻蚀在场区形成浅的沟槽。进行场区注入，再用CVD淀积SiO2填充沟槽，用化学机械抛光技术去掉表面的氧化层，使硅片表面平整化。工艺复杂，要回刻或者CMP。

CCD是感光元器件

就相当与普通相机的胶卷，起到记录图像的功能，CCD的尺寸越大，感光面积越大，价格也会越高，说白了就是尺寸越大越好越贵，ISO是说相机的感光度

实际的拍照中感光度越高照片的画面质量会下降，在光线不好的情况下，可以改变ISO值

起到照片不会那么模糊的作用

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