美国半导体清洗标准是什么

美国半导体清洗标准。对切割出来的硅片进行打磨、抛光。硅片的表面会有很多大小不一的、各种各样的颗粒，包括金属沫、油污等。这些颗粒是要清洗的内容。

1、加热。假设室温20℃的情况下，用加热器将清洗溶液的温度加热到80℃，这样酸碱在高温下能加快反应，得到更好的清洗效果。

2、使用超声波产生气泡，同样能够达到吸取硅片表面杂质的目的。这种情况是在温度要求不能太高的情况下使用的。

3、震动。为了让杂质不会粘贴在硅片表面上，采用一种晃动的方式，让装有硅片的篮子在清洗溶液中充分接触溶液，增加摩擦，有效去污。

是的，本报告由锐观咨询重磅推出，对中国半导体清洗设备行业的发展现状、竞争格局及市场供需形势进行了具体分析，并从行业的政策环境、经济环境、社会环境及技术环境等方面分析行业面临的机遇及挑战。还重点分析了重点企业的经营现状及发展格局，并对未来几年行业的发展趋向进行了专业的预判。为企业、科研、投资机构等单位了解行业最新发展动态及竞争格局，把握行业未来发展方向提供专业的指导和建议。

本研究报告数据主要采用国家统计数据，海关总署，问卷调查数据，商务部采集数据等数据库。其中宏观经济数据主要来自国家统计局，部分行业统计数据主要来自国家统计局及市场调研数据，企业数据主要来自于国统计局规模企业统计数据库及证券交易所等，价格数据主要来自于各类市场监测数据库。

第一章、半导体清洗设备行业界定及发展环境剖析

第一节、半导体清洗设备行业界定及统计说明

一、半导体清洗设备在半导体产业链中的地位

二、半导体清洗设备的界定与工作原理

（一）、半导体清洗设备的界定

（二）、半导体清洗设备工作原理

（三）、半导体清洗设备的分类

三、本行业关联国民经济行业分类

四、本报告行业研究范围的界定说明

五、本报告的数据来源及统计标准说明

第二节、中国半导体清洗设备行业政策环境

一、行业监管体系及机构介绍

二、行业标准体系建设现状

（一）、标准体系建设

（二）、现行标准汇总

（三）、即将实施标准

（四）、重点标准解读

三、行业发展相关政策规划汇总及解读

（一）、行业发展相关政策汇总

（二）、行业发展相关规划汇总

四、行业重点政策规划解读

五、政策环境对行业发展的影响分析

第三节、中国半导体清洗设备行业经济环境

一、宏观经济发展现状

二、宏观经济发展展望

三、行业发展与宏观经济相关性分析

第四节、中国半导体清洗设备行业社会环境

一、中国人口规模及结构

二、中国城镇化水平变化

三、中国居民收入水平及结构

四、中国居民消费支出水平及结构演变

五、中国消费新趋势

六、社会环境变化对行业发展的影响分析

第五节、中国半导体清洗设备行业技术环境

一、半导体清洗方法和工艺方案

（一）、清洗方法分类

（二）、半导体清洗技术——湿法清洗

（三）、半导体清洗技术——干法清洗

二、半导体清洗设备技术创新动态

三、半导体清洗设备相关专利申请及公开情况

四、半导体清洗设备技术创新趋势

五、技术环境对行业发展的影响分析

第二章、全球半导体清洗设备行业发展趋势及前景预测

第一节、全球半导体清洗设备行业发展历程及发展环境分析

一、全球半导体清洗设备行业发展历程

二、全球半导体清洗设备行业发展环境

第二节、全球半导体清洗设备行业供需状况及市场规模测算

一、全球半导体清洗设备行业供需状况

二、全球半导体清洗设备行业市场规模测算

第三节、全球半导体清洗设备行业区域发展格局及重点区域市场研究

一、全球半导体清洗设备行业区域发展格局

二、重点区域半导体清洗设备行业发展分析

（一）、韩国

（二）、美国

（三）、日本

第四节、全球半导体清洗设备行业市场竞争状况分析

一、全球半导体清洗设备行业市场竞争状况

二、全球半导体清洗设备企业兼并重组状况

第五节、全球半导体清洗设备行业发展趋势及市场前景预测

一、全球半导体清洗设备行业发展趋势预判

二、全球半导体清洗设备行业市场前景预测

第三章、中国半导体清洗设备行业发展现状与市场痛点分析

第一节、中国半导体清洗设备行业发展历程及市场特征

一、中国半导体清洗设备行业发展历程

二、中国半导体清洗设备市场发展特征

第二节、中国半导体清洗设备行业进出口状况分析

一、中国半导体清洗设备行业进出口概况

二、中国半导体清洗设备行业进口状况

（一）、行业进口规模

（二）、行业进口价格水平

（三）、行业进口产品结构

（四）、行业主要进口来源地

（五）、行业进口趋势及前景

三、中国半导体清洗设备行业出口状况

（一）、行业出口规模

（二）、行业出口价格水平

（三）、行业出口产品结构

（四）、行业主要出口来源地

（五）、行业出口趋势及前景

第三节、中国半导体清洗设备行业市场供需状况

一、中国半导体清洗设备行业参与者类型及规模

二、中国半导体清洗设备行业参与者进场方式

三、中国半导体清洗设备行业市场供给分析

四、中国半导体清洗设备行业市场需求分析

五、中国半导体清洗设备行业价格水平及走势

第四节、中国半导体清洗设备行业市场规模测算

第五节、中国半导体清洗设备行业市场痛点分析

第四章、中国半导体清洗设备行业竞争状态及市场格局分析

第一节、中国半导体清洗设备行业市场进入与退出壁垒

第二节、中国半导体清洗设备行业投融资、兼并与重组状况

一、中国半导体清洗设备行业投融资发展状况

（一）、行业资金来源

（二）、投融资主体

（三）、投融资方式

（四）、投融资事件汇总

（五）、投融资信息汇总

（六）、投融资趋势预测

二、中国半导体清洗设备行业兼并与重组状况

（一）、兼并与重组事件汇总

（二）、兼并与重组动因分析

（三）、兼并与重组案例分析

（四）、兼并与重组趋势预判

第三节、中国半导体清洗设备行业市场格局及集中度分析

一、中国半导体清洗设备行业市场竞争格局

二、中国半导体清洗设备行业国际竞争力分析

三、中国半导体清洗设备行业国产化发展现状

四、中国半导体清洗设备行业市场集中度分析

东吴证券发布投资研究报告，评级: 增持。

至纯 科技 (603690)

国内高纯工艺系统龙头，后发进军半导体清洗设备业务

至纯 科技 主要从事高纯工艺系统和半导体湿法清洗设备业务，2019年收入分别为6.37亿元和0.82亿元，占比总收入的65%和8%。其中，半导体清洗设备业务，虽然起步稍晚，但市场空间大、增速快，是公司的最大业务亮点。2015-2019年公司收入由2.08亿元增长至9.86亿元，CAGR达48%，归母净利润从1770万增长至1.1亿，CAGR达57%。

2019年公司收购波汇 科技 进军光传感器市场，产业链向下延伸的同时也将与现有的泛半导体行业多项业务形成协同效应。

高纯工艺系统：国内龙头地位稳定，为公司提供稳定的现金流

高纯工艺系统是为下游企业提供整体解决方案的业务，属于特定行业的系统集成业务，是制造业企业新建厂房和生产线的固定资产投资的重要组成部分，约占其固定资产投资总额的5%-8%。

公司高纯工艺系统国内龙头地位逐步稳固，客户选择系统供应商非常谨慎、客户粘性高，预计未来可保持年化10%-20%的复合增长。目前行业内技术领先且具有承接大项目实力与经验的本土企业较少，呈现出高等级市场集中度较高（主要为国外龙头）、低等级市场较为分散的竞争格局。公司董事长蒋渊曾是行业龙头美国凯耐第斯的中国区营销总监，团队技术积累深厚，帮助至纯的系统集成业务逐步实现进口替代。2012年-2019年高纯工艺系统收入从1.37亿元增长到6.37亿元，复合增速为25%，是为公司提供稳健增长现金流的业务板块。主要下游为医疗、光伏、半导体等，订单增长与下游客户的固定资产投资紧密相关。我们预计2020到2022年高纯工艺系统收入分别为8.6、10.4、11.4亿元。

进军半导体清洗设备领域，赛道好空间大，容易率先实现全面国产化

清洗设备在半导体设备市场中价值量占比约5-6%，较光刻、刻蚀等核心设备价值量较低。同时技术门槛也较低，比较容易率先实现全面国产化，故市场空间大。我们预计中国大陆地区每年的湿法清洗设备的空间在15-20亿美元，到2023年清洗机的国产化率可达40%-50%，即国产设备的市场空间在40-70亿元。且预计未来12寸晶圆的槽式和单片式清洗设备将是市场的主要增量，其中单片式清洗机至纯有望成为少数几家具备核心技术的国内设备商。

公司的半导体清洗设备主要包括湿法槽式清洗设备（难度低）和单片式清洗设备（难度高）。2019年起开始批量出货，目前槽式清洗设备和单片式清洗设备均能应用于8寸及12寸的晶圆。公司凭借技术优势，迅速积累了中芯国际、北京燕东、TI、华润等高端客户资源，2019年湿法工艺装备新增订单总额达1.7亿元（截止2019年末，累计已取得近40台正式订单，已完成近20台设备装机）。目前公司启东一期生产基地全面建成，已达到48套/年的产能，一二期共规划96套/年，公司于2019年12月发行可转债，募资3.56亿元投入槽式和单片式清洗设备的生产制造。项目预计在2022年达产，预计初步可贡献最高达9亿元的清洗机业务的收入规模。我们预计2020到2022年半导体设备收入分别为1.6、2.9、5.0亿元。

盈利预测与投资评级：

我们预计公司2020-2022年的净利润分别为1.5亿、2.1亿、2.8亿，当前股价对应动态PE分别为53倍、38倍、29倍，在可比公司中处于最低位置，我们看好公司半导体清洗设备业务的发展，在估值上存在提升空间，首次覆盖给予“增持”评级。

风险提示：半导体业务进展不及预期；毛利率波动风险；收购协同效应不及预期。

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