半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅:SiO 2 (s)(石英砂)+2C(s)═Si(s)(粗硅)

半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅:SiO 2 (s)(石英砂)+2C(s)═Si(s)(粗硅),第1张

由三个热化学方程式可知,生成1mol纯硅,需要热量:682.44kJ+(-657.01kJ)+(-625.63kJ)=-600.2kJ,

n(Si)=

1000g
28g/mol
=35.71mol,

则生产1.00kg纯硅的总反应热为35.75mol×(-600.2kJ/mol)=-2.14×10 4 kJ,

故选D.

SiO2+2C=2CO+Si(高温,得到粗硅)

MnO2+4HCl=MnCl2+Cl2+2H2O(加热

C+H2O=CO+H2(高温)

制纯硅

Si+2Cl2=SiCl4(加热)

SiCl4+2H2=Si+4HCl(加热)


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