硅烷和笑气,长氧化硅时候用。
HCL:清洗wafer的时候用。
CF4:蚀刻Si和氧化硅的时候用。
SF6:蚀刻Si的时候用。
其他还有BCl3, Cl2, Ar差不多都是蚀刻的使用。
甲烷是无色无味的气体,家用天然气(主要成份是甲烷)因混有臭味剂四氢噻吩而有味道。
而半导体车间(特别是新材料)一般是混有氯化氢、氨气等气体,而具有刺激性气味。
√ 楼主您好,根据您提出的问题,下面为您做详细解答:
半导体行业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分,在工艺过程中,这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主体是VOCs,同时废气中还混合了HCl、氨、HF等危险污染物。
半导体有机废气处理办法
采用RTO设备处理
RTO蓄热式氧化炉是在高温下将可燃废气氧化成氧化物和水,净化废气,并回收废气分解时所释放出来的热量,废气分解效率达到99%以上,热回收效率达到95%以上。
直接燃烧法处理
有机废气风管废气收集→沸石转轮吸附浓缩→直燃炉(TO)→烟囱排气达标排放。
希望此次回答对您有所帮助!
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