镍铬电阻合金箔如何蚀刻

镍铬电阻合金箔蚀刻方法如下：

1、铬金属蚀刻液，对于组合物的总重量，由以下组分组成：1525％重量的硝酸铈铵。1228％重量的高氯酸。0.13％重量的有机苯磺酸或其苯环被取代的不具有氧化性的衍生物或它们的混合物。余量为水。

2、该蚀刻液可以用于铬膜和镍铬合金膜的蚀刻，能蚀刻出15微米宽的精细线路，单边侧蚀量小于1微米，蚀刻速率适中且均匀，反应剧烈程度适中、不会产生沸腾飞溅，对铬膜、镍铬膜都具有同等良好的蚀刻图案控制效果，对环境影响小，易于后处理排放。

正规的镍（镍合金）蚀刻液配方里，由以下几种化学材料组成：

1、游离氢。

2、硝酸根。

3、磷酸根。

4、金属离子。

温度：30-45摄氏度。

蚀刻方式：浸泡、泼溅、喷淋，皆可。

在此基础上，加入氟，可蚀刻钴合金。

先通入过量NH3，让Fe3+沉淀为Fe(OH)3，过滤掉；剩下的溶液里主要还存在[Ni(NH3)4]2+、[Zn(NH3)4]2+和Cl-。向其中加入过量HCl让氨合离子重新解离出来，再点解此溶液，会有Ni析出（电压不要太大，Ni2+会先于Zn2+放电），得到的固体就基本是Ni了，如果纯度不达到要求，则可以进一步提纯。

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