uv-vis是什么？

紫外-可见光光谱（Ultraviolet–visible spectroscopy，UV-Vis），又称紫外-可见分子吸收光谱法。

紫外-可见分光光度法是在190～800nm波长范围内测定物质的吸光度，用于鉴别、杂质检查和定量测定的方法。当光穿过被测物质溶液时，物质对光的吸收程度随光的波长不同而变化。因此，通过测定物质在不同波长处的吸光度，并绘制其吸光度与波长的关系图即得被测物质的吸收光谱。

从吸收光谱中，可以确定最大吸收波长λmax和最小吸收波长λmin。物质的吸收光谱具有与其结构相关的特征性。因此，可以通过特定波长范围内样品的光谱与对照光谱或对照品光谱的比较，或通过确定最大吸收波长，或通过测量两个特定波长处的吸收比值而鉴别物质。

用于定量时，在最大吸收波长处测量一定浓度样品溶液的吸光度，并与一定浓度的对照溶液的吸光度进行比较或采用吸收系数法求算出样品溶液的浓度。

显微分光光度法

显微镜样品的紫外可见光谱是通过将光学显微镜与紫外可见光学器件，白光源，单色仪和灵敏的检测器（如电荷耦合器件（CCD）或光电倍增管（PMT））集成在一起完成的。由于只有一条光路可用，因此它们是单光束仪器。现代仪器能够测量微米级采样区域的反射率和透射率中的紫外线可见光谱。

使用此类仪器的优势在于，它们能够测量微观样品，但也能够以高空间分辨率测量较大样品的光谱。因此，它们在法证实验室中用于分析单个纺织纤维中的染料和色素，微观油漆碎片和玻璃碎片的颜色。它们还用于材料科学和生物学研究，以及通过测量镜质体反射率来确定煤和石油烃源岩的能量含量。

显微分光光度计用于半导体和微光学行业，用于在沉积薄膜后监控薄膜的厚度。在半导体行业中，使用它们是因为电路的关键尺寸是微观的。半导体晶片的典型测试将需要从已图案化或未图案化的晶片上的许多点获取光谱。

沉积膜的厚度可以从干涉图案计算出光谱 此外，紫外可见分光光度法可用于确定厚度以及薄膜的折射率和消光系数，如薄膜材料的折射率和消光系数所述。然后可以生成整个晶片上的膜厚图，并将其用于质量控制目的。

以上内容参考 百度百科-紫外-可见分光光度法

薄膜在线测厚仪的测量原理有4种：射线技术，X射线技术，近红外技术和光学透过率技术　2.1 射线技术射线技术是最先应用于在线测厚技术上的射线技术，在上世纪60年代就已经广泛用于超薄薄膜的在线厚度测量了。它对于测量物没有要求，但传感器对温度和大气压的变化、以及薄膜上下波动敏感，设备对于辐射保护装置要求很高，而且信号源更换费用昂贵，Pm147源可用5-6年，Kr85源可用10年，更换费用均在6000美元左右。2.2 X射线技术这种技术极少为塑料薄膜生产线所采用。X光管寿命短，更换费用昂贵，一般可用2-3年，更换费用在5000美元左右，而且不适用于测量由多种元素构成的聚合物，信号源放射性强。X射线技术常用于钢板等单一元素的测量。2.3 近红外技术近红外技术在在线测厚领域的应用曾受到条纹干涉现象的影响，但现在近红外技术已经突破了条纹干涉现象对于超薄薄膜厚度测量的限制，完全可以进行多层薄膜总厚度的测量，并且由于红外技术自身的特点，还可以在测量复合薄膜总厚度的同时给出每一层材料的厚度。近红外技术可用于双向拉伸薄膜、流延膜和多层共挤薄膜，信 号源无放射性，设备维护难度相对较低。 　2.4光学涂层技术对于透光的材料，材料一定的情况下，透过率和测量的厚度成一一对应关系，所有通过测量材料的光学透过率（光密度）来达到测量材料厚度的目的，在卷绕式镀膜行业，如镀铝膜，各种包装膜，通过在线监测薄膜的透过率来在线监测生产的品质，已经是一种非常成熟的方案。如深圳市林上科技的LS152真空镀膜在线测厚仪就是利用光学透过率的原理来实现非接触式的在线测厚，该仪器支持RS485通讯接口和MODBUS通讯协议，可以与镀膜机上的PLC进行通讯实现闭环控制。

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