半导体蚀刻 POLY主要成分是什么

半导体蚀刻 POLY主要成分是什么,第1张

POLY产品主要原料由以下物料组成:1、POLY油(即树脂)分软POLY和普通两种,POLY油是产品中的主要成分.2、石膏粉(化学名Caco3),与POLY油混合比例约为10:8.3、彩绘油漆,主要有平光与亮光漆之分.4、各种表面处理液:...

蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版,也广泛地被使用于减轻重量(Weight Reduction)仪器镶板,铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工;经过不断改良和工艺设备发展,亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,蚀刻更是不可或缺的技术。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻(photochemical etching),指通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。

​50%双氧水稀释到1%

双氧水作为一种常用的消毒剂被我们所知晓。双氧水,又名过氧化氢,化学式为:H2O2,是一种强氧化剂一般的双氧水为无色透明的液体,但是高纯度的双氧水是淡蓝色的粘稠液体。一般情况下双氧水会缓慢分解成水和氧气,速度极慢。50%双氧水就属于高纯度双氧水,它的分解速度变快。

医用双氧水可用于杀灭肠道致病菌、化脓性球菌,致病酵母菌等细菌,但最常用的还是皮肤表面的消毒。一般的医用双氧水浓度小于或等于3%。50%双氧水不能直接作用于皮肤,因为过浓的双氧水容易造成皮肤损伤。工业双氧水可用作生产过硼酸钠、过碳酸钠、过氧乙酸、亚氯酸钠的原料;用作棉织物的漂白剂,用作食品行业中的漂白剂、氧化剂、淀粉变性剂、防腐剂等。50%双氧水更多的用途倾向于工业,主要用于电子行业,如半导体/LED行业清洗、铜蚀刻液等;用于羊毛、生丝、脂肪、纸张、木材、藤制品等;用于PCB线路板清洗,金属表面处理;用于工业污水、污泥处理;用于生产金属盐类或其他化合物以除去无机杂质,提高电镀镀件质量等等。高浓度的过氧化氢可用作火箭动力助燃剂。若使用50%双氧水进行表面消毒,必须先要对其进行稀释。否则会对皮肤造成灼伤


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