半导体封装工艺中用到的环氧树脂与框架之间有分层的原因有哪些,怎么去解决这种问题

半导体封装工艺中用到的环氧树脂与框架之间有分层的原因有哪些,怎么去解决这种问题,第1张

1.首先是环氧树脂的粘接强度不够,可以让你的供应商提高环氧树脂的粘接强度,不过一般供应商一般都会向你推荐更高端更贵的型号,选择愿意配合你的供应商吧

2.框架严重氧化,框架氧化后环氧树脂与框架的粘接强度降低,尽量在前道工序保证你的框架不被氧化,氧化后一般能从颜色看得出来,对比一下前后的变化就知道了

3.适当加大注射(转进)压力

4.适当降低框架预热温度,也是为了防止氧化,一般要低于150度,当然还要兼顾你的模具的匹配性

5.适当调整注射速度(看实验的结果,也要靠经验了)

解决了以上问题分层基本上可以消除

薄膜晶体管的原理:

1、薄膜晶体管是一种绝缘栅场效应晶体管。它的工作状态可以利用Weimer表征的单晶硅MOSFET工作原理来描述。以n沟MOSFET为例,物理结构如图2。当栅极施以正电压时,栅压在栅绝缘层中产生电场,电力线由栅电极指向半导体表面,并在表面处产生感应电荷。随着栅电压增加,半导体表面将由耗尽层转变为电子积累层,形成反型层。

2、当达到强反型时(即达到开启电压时),源,漏间加上电压就会有载流子通过沟道。当源漏电压很小时,导电沟道近似为一恒定电阻,漏电流随源漏电压增加而线性增大。当源漏电压很大时,它会对栅电压产生影响,使得栅绝缘层中电场由源端到漏端逐渐减弱,半导体表面反型层中电子由源端到漏端逐渐减小,沟道电阻随着源漏电压增大而增加。漏电流增加变得缓慢,对应线性区向饱和区过渡。

3、当源漏电压增到一定程度,漏端反型层厚度减为零,电压在增加,器件进入饱和区。在实际LCD生产中,主要利用a-Si:HTFT的开态(大于开启电压)对像素电容快速充电,利用关态来保持像素电容的电压,从而实现快速响应和良好存储的统一。

薄膜晶体管是场效应晶体管的种类之一,大略的制作方式是在基板上沉积各种不同的薄膜,如半导体主动层、介电层和金属电极层。薄膜晶体管对显示器件的工作性能具有十分重要的作用。

参考资料

百度百科:https://baike.baidu.com/item/%E8%96%84%E8%86%9C%E6%99%B6%E4%BD%93%E7%AE%A1/2611528?fr=aladdin#2


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