什么化学剂可以把抛光后的半导体中硅半导体硅片洗干净？

标准的RCA清洗方法：

1 NH3•H2O（氨水）：H2O2（双氧水）：去离子水=1：1：5浸泡（70~80度）

2 HF：去离子水=1：20浸泡。3 HCL（盐酸）：H202（双氧水）：去离子水=1：1：5浸泡（70~80度）。

DNS是厂商名字，中文叫迪恩士，就是化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有HF,,H2SO4,H2O2，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子,去原子，最后还有DI清洗。IPA是异丙醇，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。

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