半导体镀膜工艺是什么

镀膜工艺一般是PVD和CVD。PVD：物理气相沉积。通过plasm轰击金属靶材（金靶，铜靶，Al，Cr.....），金属原子脱离靶材，落在wafer表明，形成薄膜。CVD：化学气相沉积。这个是通过化学反应，在晶圆表面张氧化薄膜。

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折射率与a-Si膜的含氢量、致密程度相关。一般随着含氢量的减少和致密度的提高，折射率增大。在太阳能电池应用方面，需要知道a-Si的折射率，以由于光学匹配方面的计算，比如用来确定后续减反射膜的膜厚和折射率等。

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