cvd:Chemical Vapor Deposition
化学气相
沉积,众多薄膜沉积技术中的一种。pvd:(Vapor ),指利用物理过程实现物质转移,将
原子或分子由源转移到基材表面上的过程。ALD:原子层沉积。拓展由于低温沉积、薄膜纯度以及绝佳覆盖率等固有优点,ALD(原子层淀积)技术早从21世纪初即开始应用于半导体加工制造。DRAM电容的高k介电质沉积率先采用此技术,但近来ALD在其它半导体工艺领域也已发展出愈来愈广泛的应用。CVD--chemical vapor deposition,化学气相沉积,是一种利用气态的化学源材料在晶圆表面产生化学沉积的制程。
面板行业工艺排气系统通常包括一般排、酸排、碱排、CVD排气、剥离排、有机排6类
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