对于金属氧化物,如果在特定外界环境下(比如高温),会造成晶格中的氧脱离,导致氧缺失,形成氧空位,缺陷方程可以表示为O=1/2O2+Vo.对于金属氧化物,其氧空位是缺陷的一种。
由于在氧化物中相对于氧,其他元素的电负性一般小于氧,所以当失去氧时,相当于取走一个氧原子加上两个带正电的电子-空穴,如果这两个电子-空穴被束缚在氧空位上,说明氧空位一般带正电。
对于金属氧化物,如果在特定外界环境下(比如高温),会造成 晶格中的 氧脱离,导致氧缺失,形成 氧空位,缺陷方程可以表示为O=1/2O2+Vo.对于金属氧化物,其氧空位是缺陷的一种。
由于在氧化物中相对于氧,其他元素的 电负性一般小于氧,所以当失去氧时,相当于取走一个氧原子加上两个带正电的电子-空穴,如果这两个电子-空穴被束缚在氧空位上,说明氧空位一般带正电。
个人感觉:三价元素替代四价元素会形成p型半导体,在替代的过程中造成了电荷的不平衡(即空穴增多),而氧空位(n型导电特性)可以补偿p型半导体,从而造成氧空位比正常情况下偏多.而五价元素替代四价元素恰好与上述情况相反.
个人感觉:三价元素替代四价元素会形成p型半导体,在替代的过程中造成了电荷的不平衡(即空穴增多),而氧空位(n型导电特性)可以补偿p型半导体,从而造成氧空位比正常情况下偏多.而五价元素替代四价元素恰好与上述情况相反.欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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