关于反射高能电子衍射介绍

[拼音]：fanshe gaoneng dianzi yanshe

[外文]：reflection high-energy electron diffraction

反射高能电子衍射是高能电子衍射的一种工作模式。它将能量为10～50keV的单能电子掠射 (1°～3°)到晶体表面，在向前散射方向收集电子束，或将衍射束显示于荧光屏（见图）。

一幅反射高能衍射图只能给出倒易空间（见倒易点阵）某个二维截面，从衍射点之间的距离可确定相应的晶面间距。旋转样品，可以在荧光屏上得到不同方位角的二维倒易截面，从而仍可获得表面结构的全部对称信息。

由于在晶体中电子散射截面远大于X 射线的散射截面，加之掠射角小，从而使反射高能衍射与低能电子衍射一样具有表面灵敏度（约10～40┱），但它不仅限于作单晶表面结构分析，也可用于多晶、孪晶、无定形表面及微粒样品的表面结构分析。

反射高能电子衍射得到广泛运用是与分子束外延技术发展有关。它可用于原位观察外延膜生长情况，为改进生长条件提供依据。与低能电子的情况有所不同，高能电子束与晶体相互作用中非d性散射较弱，其强度分析的理论还处于探索之中。

参考书目

1. Shozo Ino，Jαpanese Journal of Applied Physics，Vol.16，No.6，pp.891～908，1977.