中国光刻机最新突破几纳米

中国首台5纳米光刻机（国产光刻机最新进展）

中国什么时候能做出5nm的光刻机？真的有那么难吗？长见识。

掩模对准器现在为许多普通人所知 # 8221；高级 # 8221；名词，这个复杂的机器现在已经成为美国用来恶意制裁中国芯片的武器。我们知道这个世界上很多东西都是聚集全球力量向别人学习而成的，比如手机，光刻机。那么，中国如果要进行自己的光刻机研究，需要多少年才能达到5纳米的水平？要看很久。

在说这个问题之前我们还是需要先了解一下光刻机究竟有多复杂。

现在世界上最顶级的设备无疑是ASML的5nm光刻机。这台机器如果一个一个拆，大概能装进40个集装箱，总数超过1亿个零件，绝对是机器领域的庞然大物。而且这十万个零件中，有很多精密仪器，顶级光源，超稳定轴承，量规。他们来自世界各个国家，包括日本、德国和美国。其中，美国实际上为光刻机提供了大量的基础零件，这也是他们如此强硬地要求芯片厂商禁止向华为出口产品的原因。

很多人认为，打破这个禁令最简单的方法就是自己动手。但这并不容易。

在光刻机需要的所有零件中，中国制造不出来的零件不在少数。第一时间打通这些供应商的货源几乎是不可能的。毕竟，这些供应商不得不考虑向中国出售光刻机材料，他们可能会遭到美国的报复和攻击。如果能完善供应链，发展力所能及的技术，国内光刻机最先进的技术应该是28纳米左右。

28纳米到5纳米是一个巨大的鸿沟。

这种差距不是单靠研究就能达到的。事实上，在理论基础上，我国一些相关实验室已经具备了2nm技术的理论基础和研究方向，但量产需要保证稳定性、良率和效率。这样做真的很难。

为了成功研究5纳米光刻机，仅美国就投入了50多个顶尖科研团队，历时20多年。欧洲国家、日本、韩国虽然投入没那么多，但是在正确的时间做了正确的事情。而我们国家的光刻机技术已经在190纳米左右停滞了20年。20多年足以改变很多情况。

所以毫不夸张地说，中国有可能在10年或20年内独立生产出能够稳定量产5nm工艺芯片的光刻机。毕竟现在这个领域的技术处于被封锁的阶段，而光源等核心部件中国也遭到了禁运，所以某些人靠自己和世界所花的时间必然会有巨大的差距。

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