Luceda和Mentor合作,打造光电一体的EDA工具

比利时Luceda公司是根植于比利时根特大学和IMEC的新兴硅光设计EDA软件提供商，近年来在中国市场表现非常活跃，组织了多次硅光领域的培训课程。这次的“名家芯思维”硅光发展与应用论坛期间，Luceda公司亚洲区代表曹如平博士携手他们的合作伙伴，西门子旗下的老牌EDA设计软件公司Mentor再次为中国客户提供了关于硅光EDA设计工具的最新知识。21日上午，光纤在线编辑应邀采访了曹如平博士和陈昇祐总监。

作为硅光领域最重要的EDA工具提供商之一，曹博士和陈总监对这个领域近年来的进展了如指掌。曹博士告诉编辑，最近两年多来，许多客户的设计团队对EDA软件的重视越来越高。最开始接触硅光设计的时候，客户多是只关心硬件方面的问题。而在不断的实践中，他们发现其实更多的问题是在设计软件的使用上，比如对设计版图的检查和元件库的使用等等。不同于微电子领域的设计工程师普遍有EDA的知识和经验，硅光工程师的背景多是光学背景。正是在设计中的许多实际问题，他们认识到在EDA工具使用上的欠缺，因此更加重视这个领域的工作。

Luceda和Mentor的产品能够为硅光工程师提供什么样的具体帮助呢？曹博士告诉编辑，EDA工具自动化大规模的版图验证功能为硅光工程师提供了极大的便利。现在的硅光芯片设计普遍包括多个抽象的层次，EDA工具提供了对这些层次从上到下以及從下到上的全面视角。同时，他们的EDA工具还支持光与电设计更好的整合。陈总监说，受惠于硅光器件以及CMOS兼容工艺发展的成熟，硅光的商业潜能已经十分明确，硅基光電子集成线路设计必须满足商业化的时程压力、性能指标以及量产良率。Mentor是电子EDA设计的领先厂商，其中的 Tanner工具与 Luceda 整合成为硅基光电子集成线路的全流程设计平台，他们已经和世界上领先的各大硅基光电子晶圆代工厂合作开发许多个工艺设计套件 （PDK），提供和电子芯片设计同样流畅的流程并处理光子与电子的基本差异，硅基光电子芯片设计师可以进行系统设计、原理图设计、物理版圖設計、以及大规模光波導布線自動化，Tanner 平台並整合业界标准Calibre 物理版图验证方法以及光刻仿真，實現符合可製造性的大規模設計。他们将微电子设计领域许多工具带到光芯片领域，协助建立起光电一体的设计生态系统。总之，EDA设计工具的使用大大提升了客户流片的成功率，这正是Luceda和Mentor的产品对客户的最大价值。期盼和国内硅基光电子工艺线以及芯片设计师合作，实现硅基光电子集成芯片国产化。

光电混合集成是近年来硅光领域的重要技术趋势。陈总监告诉编辑，他们正观察到越来越多这样的例子，比如在一些芯片公司GPU产品的设计中就开始使用更多的光互联方案，同样的例子还出现在陈总监也在负责的物联网领域。正因为如此，Mentor已经在他们产品中引入更多光学设计的工具，比如Mentor公司的Tanner产品可以支持MEMS的光学设计。他们的Caliber验证工具对于光电混合设计的版图可以提供很好的检查。

Luceda和Mentor的紧密合作为硅光设计工程师提供了便利的工具，为硅光大规模自动化提供了可能，也是硅光光电混合集成这一趋势最好的注解。