下面以光谱测试法为例介绍半导体材料光学带隙的计算方法:
对于半导体材料,其光学带隙和吸收系数之间的关系式为[]:
ah v -B0HEg)u ( 1) .
其中a为摩尔吸收系数, h为普朗克常数,v为入射光子频率,B为比例常数,Eg
为半导体材料的光学带隙,m 的值与半导体材料以及跃迁类型相关:
推导1:根据朗伯比尔定律可知:
A=ab c?(2)
其中A为样品吸光度,b 为样品厚度,c为浓度,其中be为一常数,若
B1=(B/be)1/m,则公式(1)可为:
(Ahv1)m=B1(hv-Eg) (3)
根据公式(3),若以hv值为x轴,以(Ah v )1/m值为y轴作图,当y=0时,反向延
伸曲线切线与x轴相交,即可得半导体材料的光学带隙值Eg。
禁带宽度是半导体的一个重要特征参量,其大小主要决定于半导体的能带结构,即与晶体结构和原子的结合性质等有关。禁带 宽度的大小实际上是反映了价电子被
束缚强弱程度的一个物理量,也就是产生本征激发所需要的最小能量。
禁带宽度可以通过电导率法和光谱测试法测得,为了区别用电导率法测得禁带宽度值,用光谱测试法测得的禁带宽度值又叫作光学带隙。
直接带隙半导体材料就是导带最小值(导带底)和价带最大值(价带顶)在k空间中处于同一位置的半导体。电子要跃迁到导带上产生导电的电子和空穴(形成半满能带)只需要吸收能量。直接带隙半导体的重要性质:当价带电子往导带跃迁时,电子波矢不变,在能带图上即是竖直地跃迁,这就意味着电子在跃迁过程中,动量可保持不变——满足动量守恒定律。相反,如果导带电子下落到价带(即电子与空穴复合)时,也可以保持动量不变——直接复合,即电子与空穴只要一相遇就会发生复合(不需要声子来接受或提供动量)。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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