半导体蚀刻 POLY主要成分是什么

半导体蚀刻 POLY主要成分是什么,第1张

POLY产品主要原料由以下物料组成:1、POLY油(即树脂)分软POLY和普通两种,POLY油是产品中的主要成分.2、石膏粉(化学名Caco3),与POLY油混合比例约为10:8.3、彩绘油漆,主要有平光与亮光漆之分.4、各种表面处理液:...

1、设备便宜,成本低,易于打理;

2、最重要的是可以擦,遇到打错的时候,可以用特殊溶剂浸过之后,消除掉,如果是激光的话,一旦打错,这批元器件就废了。

PS:我的答案是从半导体封装厂的工程师嘴里问出来的,他们现在也都换激光打印了。激光打印最大的优点是速度快,防伪性好(主要是机器太贵,一些小厂买不起)。你的这个问题补充实在没看懂意思。太理论化了。

半导体产业属于重污染企业。

首先是半导体工厂内会有大量的酸性气体(这些气体来自于晶圆的蚀刻、清洗等过程)。其次,由于半导体制造的过程中会需要大量使用光阻液、显影液等,这些溶液主要是有机物质,因此在蚀刻、清洗、薄膜生长等过程中,会有大量的有机溶剂被使用,其中就包括二甲苯、丙酮、苯等,其中苯是高毒性的一级致癌物。


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