显影液作用是啥?

显影液作用是啥?,第1张

显影液的浓度是指显影剂的相对含量,即NaOH、Na2SiO3总含量。市场上销售的显影液多是浓缩型液体,使用时需要按比例稀释,显影液的浓度多以显影液的稀释比来表示。在其他条件不变的前提下,显影速度与显影液浓度成正比关系,即显影液浓度越大,显影速度越快。 当温度22℃,显影时间为60秒时,PD型显影液浓度对PS版性能的影响见表1(略)。从表中数据可看出,以3级干净为准的曝光量,PD型显影液浓度以1∶6为最佳。 当显影液浓度过大时,往往因显影速度过快而使显影 *** 作不易控制;特别是它对图文基础的腐蚀性增强,容易造成网点缩小、残损、亮调小网点丢失及减薄涂层,从而造成耐印力下降等弊病;同时空白部位的氧化膜和封孔层也会受到腐蚀和破坏,版面出现发白现象,使印版的亲水性和耐磨性变差。显影液浓度大,还易有结晶析出。 当显影液的浓度偏低时,碱性弱,显影速度慢,易出现显影不净、版面起脏、暗调小白点糊死等现象。

银盐胶片显影用的药液称显影液。

用于黑白胶片显影的显影液称黑白显影液,用于彩色胶片显影的称彩色显影液。

显影液的主要成分是显影剂。为了完善性能,通常还加一些其他成分,诸如促进显影的促进剂,防止显影剂氧化的保护剂,防灰雾生成的灰雾抑制剂和防灰雾剂等。

通过对各组分不同用量的调配可以得到不同性能的显影液,如微粒显影液、高反差显影液等。

工业上说的显影剂,是针对半导体晶片而言。系列有显影剂、光刻胶等。

半导体工艺——光刻

紫外负性光刻胶

显影液:二甲苯。清洗液:乙酸丁脂或乙醇、三氯乙烯。

显影中的常见问题:

a、显影不完全(Incomplete Development)。表面还残留有光刻胶。由显影液不足造成。

b、显影不够(Under Development)。显影的侧壁不垂直。由显影时间不足造成。

c、过度显影(Over Development)。靠近表面的光刻胶被显影液过度溶解,形成台阶。由显影时间太长造成。


欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出

原文地址: http://outofmemory.cn/dianzi/7107034.html

(0)
打赏 微信扫一扫 微信扫一扫 支付宝扫一扫 支付宝扫一扫
上一篇 2023-04-01
下一篇 2023-04-01

发表评论

登录后才能评论

评论列表(0条)

保存