硅片表的面氧化物如何去除？

硅片表面一般是SiO2，可以用HF酸浸泡除去。但是在空气中还是会很快生成一层薄氧化层的。有一个方法是再把硅片用浓硫酸氧化表面，这样的表面氧化层会比较纯，然后再用等离子体轰击除去表面氧化层。

单质硅的表面一般有一层硅氢层，可以用强氧化剂氧化成硅氧氢（Si-OH），比如食人鱼洗液就是浓硫酸和过氧化氢配成的强氧化溶液。还有一种仪器叫做氧等离子体溅射仪，用来清洗材料表面的，高能量的氧等离子可以将硅表面氧化成硅氧氢（Si-OH）

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