实际测试主要利用电子回旋共振的方法测定有效质量。当然,如果你有具体的能带结构,可以利用求能带顶或底的二次微分的倒数来求得有效质量。
杂质主要有几种,一种是掺杂杂质,包括施主和受主,如P,As(施主),B,Ga(受主);第二种是复合中心杂质,例如金等,可以通过加入这些材料在禁带内部形成杂质能级提高复合速度。
缺陷,主要包括点缺陷(原子空位),位错和层错。
杂质能级不一定都位于禁带之中,利用类氢模型可以计算杂质能级的位置。
一般来说有:Ec-Ed=13.6eVxm*/(me2) 其中m*为电子有效质量,m为电子质量,e为半导体介电常数。
在半导体物理中电子的迁移率与哪些因素有关?迁移率和单位载流子的电荷量、载流子的平均自由时间和载流子有效质量有关。迁移率=电荷量乘自由时间×有效质量。平均自由时间是指载流子受晶格两次散射中间的时间,即外电场下自由加速的时间。迁移率是单位电场强度下所产生的载流子平均漂移速度。迁移率代表了载流子导电能力的大小,它和载流子(电子或空穴)浓度决定了半导体的电导率。迁移率与载流子的有效质量和散射概率成反比。载流子的有效质量与材料有关,不同的半导体中电子有不同的有效质量。如硅中电子的有效质量为0.5m0(m0是自由电子质量),砷化镓中电子的有效质量为0.07m0。空穴分重空穴和轻空穴,它们具有与电子不同的有效质量。半导体中载流子在低温下主要受到缺陷和杂质的散射,高温下主要受到由原子晶格振动产生的声子的散射。散射越强,迁移率越低。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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