电路板清洗剂环保洗板水用英语怎么说

电路板清洗剂环保洗板水_有道翻译

翻译结果：

Circuit board cleaner environmental protection plate water washing

washing_有道词典

washing

英 ['wɒʃɪŋ]

美 ['wɑʃɪŋ]

n. 洗涤；洗涤剂；要洗的衣物

v. 洗；使受洗礼（wash的ing形式）

adj. 洗涤用的，清洗用的

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[网络短语]

Washing 水洗,洗涤建议,洗涤

Foot washing 洗脚礼,洗脚礼,洗脚

RCA cleaning 就是采用RCA方法来清洗的意思。RCA是一种典型的、普遍使用的湿式化学清洗法，该清洗法主要包括以下几种清洗液： （1）SPM：H2SO4 /H2O2 120～150℃ SPM具有很高的氧化能力，可将金属氧化后溶于清洗液中，并能把有机物氧化生成CO 2和H2O。用SPM清洗硅片可去除硅片表面的重有机沾污和部分金属，但是当有机物沾污特别严重时会使有机物碳化而难以去除。 （2）HF(DHF)：HF(DHF) 20～25℃ DHF可以去除硅片表面的自然氧化膜，因此，附着在自然氧化膜上的金属将被溶解到清洗液中，同时DHF抑制了氧化膜的形成。因此可以很容易地去除硅片表面的Al，Fe，Zn，Ni等金属，DHF也可以去除附着在自然氧化膜上的金属氢氧化物。用DHF清洗时，在自然氧化膜被腐蚀掉时，硅片表面的硅几乎不被腐蚀。 （3）APM (SC-1）：NH4OH/H2O2 /H2O 30～80℃ 由于H2O2的作用，硅片表面有一层自然氧化膜(SiO2)，呈亲水性，硅片表面和粒子之间可被清洗液浸透。由于硅片表面的自然氧化层与硅片表面的Si被NH 4OH腐蚀，因此附着在硅片表面的颗粒便落入清洗液中，从而达到去除粒子的目的。在 NH4OH腐蚀硅片表面的同时，H2O 2又在氧化硅片表面形成新的氧化膜。 （4）HPM (SC-2)：HCl/H2O2/H2 O 65～85℃ 用于去除硅片表面的钠、铁、镁等金属沾污。在室温下HPM就能除去Fe和Zn。 清洗的一般思路是首先去除硅片表面的有机沾污，因为有机物会遮盖部分硅片表面，从而使氧化膜和与之相关的沾污难以去除；然后溶解氧化膜，因为氧化层是“沾污陷阱”，也会引入外延缺陷；最后再去除颗粒、金属等沾污，同时使硅片表面钝化。

我们公司用这三咱来清洗裸芯片，它们的活性是 丙酮异丙醇 酒精,但一般清洗时，你最好，先拿个打点的片试试反不反应！然后再大批量清洗！不过这些溶剂对人的健康有点影响...所以不大好直接用酒精 哈哈哈活性是 丙酮异丙醇 酒精学习中好像丙酮伤肝的异丙醇清洗在半导体中是很重要的， 丙酮的挥发太快了我们好像用IPA更多一些学习！！！！！！！！！！！！！！11IPA就是异丙醇吧。异丙醇，我们这里好像不用啊我这也不用，都用丙酮。异丙醇脱水用的，价格比酒精便宜，所以使用的比较多，但要注意它的纯度，经常是回收再使用的。丙酮去油效果好些，毒性比苯之类的小些。只用于设备的擦洗IPA 用来清洗后的干燥阿，丙酮通常用于擦洗机台或零件，不用于清洗。：）IPA也就是异丙醇 挥发性教丙酮小 适合清洗而且丙酮现在是易制毒类化学品 公安局管制我们是在用异丙醇脱水清洗，而丙酮作为清洗油渍的最佳溶剂用来清洗水印效果不错

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