半导体行业有用到超声波清洗机吗?

有啊，比如清洗半导体硅片。随着半导体材料技术的发展，对硅片的规格和质量也提出更高的要求，适合微细加工的大直径硅片在市场的需求比例将日益加大。半导体,芯片,集成电路,设计,版图,芯片,制造,工艺目前世界普遍采用先进的切、磨、抛和洁净封装工艺，使制片技术取得明显进展。最新尖端技术的导入，使SOI等高功能晶片的试制开发也进入批量生产阶段。对此，硅片生产厂家也增加了对300mm硅片的设备投资，针对设计规则的进一步微细化。利用超声波清洗技术，在清洗过程中超声波频率在合理的范围内往复扫动，带动清洗液形成细微回流，使工件污垢在被超声剥离的同时迅速带离工件表面，提高清洗效率。

超声波清洗方法及其放置方向

将被洗研磨硅片水平状放置在清洗槽底部上方栅栏状的石英棒框架上，在确保清洗槽内具有去离子水高度并不断流动的条件下，利用设在清洗槽底部的超声波振子进行清洗，超声波频率为40KHz，每5分钟将研磨硅片翻一个面，连续超洗至被超洗的研磨硅片表面没有黑色污染物冒出止。超声波清洗单晶硅片装置清洗槽的槽壁上设有进水口和出水口，槽底部下方设有超声波振子，清洗槽槽内设有一搁置单晶硅片的框架，框架底壁为栅栏状的石英棒形成的平面低于去离子水水平面，整个框架由支撑脚支撑在清洗槽内。

具体实施时，石英棒距离清洗槽的底壁为15厘米。清洗时，单晶硅片可以平置在石英棒上，将现有的竖超洗改成平超洗，消除了单晶硅片在竖超洗状态下，污染物会残留堆积在硅片表面，形成局部区域清洗不干净，以及承载硅片的软体花篮会吸附和阻挡掉超声波源的传递，从而造成硅片表面局部区域清洗不干净的现象，具有结构更简单、用水量大大减少的优点。

1、半导体材料类产品

超声波清洗设备可以清洗的半导体材料类产品工件有集成电路芯片、功率管、硅片、镓砷化物、二极管、铅框、毛细管、托盘等。这种工作方面若是有毛絮、蚀刻工艺油、冲压油、抛光腊及其尘粒等污渍，超声波清洗设备都能够进行合理的清洗。

2、电子及电气类的产品

电子电气类产品工件有许多都能用超声波清洗设备来清洗，主要包含有电子管构件、阴极射线、印刷电路板、石英构件、电阻器、直流电压表、可变性式电容器、断路器、继电器、连接器、可变性式连接器、电解法交流接触器、扬声器构件、功率表、离心水泵上的马达/滚轮/固定片等等。这种产品工件上若是有手指印、粉状、切割油、冲压油、铁屑、抛光材料、胡桃粉状、抛光腊、粘腻、环氧树脂、尘土等均可使用超声波清洗设备清洗。

3、光学类产品

包含镜头、棱镜、透镜、过滤镜片、玻璃装置、菲林及其光纤等在内的光学装置类产品工件，也能够通过超声波清洗设备将上面的塑料残余、环氧树脂、石腊、手指印等污渍清洗干净。除开半导体材料类、电子电气类及其光学装置类产品工件以外，性价比高价格便宜的超声波清洗设备还能够对五金和机械类的产品工件、电镀类产品工件、汽车零配件还有各种化学纤维产品进行清洗，不难看出，超声波清洗机不可清洗范畴非常广泛，所以才使它变成每个中国的制造业清洗新宠。

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超声波清洗设备是可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。随着我国经济发展的要求，以及新型工业化进程的加快，工业清洗作为工业生产中的一个重要环节，对超声波清洗设备的需求日趋强劲，工业清洗行业说大也大说小其实也很小，总之大致可分为民用清洗和工业清洗，再往下细分可又分为一般工业清洗、精密清洗、超精密清洗。

超声波清洗设备近年来在各个行业的应用：

1、光学、光电、光伏行业：

需要清洗的产品：光学玻璃及组件、光电玻璃及组件、光伏玻璃及组件等。

污染源1：研磨粉、真漆、沥青、润滑油、抛光剂、石墨、微尘。

污染源2：尘垢、盐、手垢。

使用清洗剂1：有机性洗涤剂，醇类(丙酮等)。

使用清洗剂2：碱性洗涤剂,酸性洗涤剂,中性洗涤剂，纯水。

2、电子/电气工业行业：

需要清洗的产品：半导体元件(如硅片、集成电路)、各类高低压电器(如继电器、开关、电路板、电位计等)、各类电机、压缩机、各类电气元件、真空器件等。

污染源1：微尘、油污、焊剂,油防腐、蜡油、磨料、染料树脂。

污染源2：锈、氧化物、尘垢、盐、手垢。

使用清洗剂1：有机性洗涤剂，醇类(丙酮等)。

3、汽车/工程机械/机车工业：

需要清洗的产品：发动机部件(如缸体、缸套、阀体、活塞、活塞环、气门等)、点火栓、制动泵、转向机、减振器、各类精密零部件等。

污染源：油、润滑油、防腐剂、机械切屑、塑料残留物、研磨磨料、石墨、焦油、尘垢、碳。

使用清洗剂：有机性洗涤剂轻油(洗油等)碱性洗涤剂,酸性洗涤剂,中性洗涤剂纯水。

4、眼镜、钟表工业、宝石加工业：

需要清洗的产品：眼镜、眼镜架、钟表、透镜、宝石、贵重金属装饰品、手饰、各类精密零件。

污染源1：涂料、真漆、清漆、润滑油、抛光剂、石墨、微尘。

污染源2：尘垢、盐、手垢、染料、锈、塑料残留物。

使用清洗剂1：有机性洗涤剂、醇类(丙酮等)。

使用清洗剂2：碱性洗涤剂、酸性洗涤剂、中性洗涤剂、纯水。

5、飞机工业：

需要清洗的产品：发动机部件、各类附件、燃料油过滤机、燃料计量仪表、注入喷嘴、旋转翼、流量控制装置、机械控制装置用零件、轮毂、各类精密零部件等。

污染源：氧化物、灰尘、机械运转时产生的碎屑、油类、润滑油、抛光粉、防腐剂、积碳。

使用清洗剂：有机性洗涤剂轻油(洗油等)水基洗涤剂纯水。

6、橡胶工业：

需要清洗的产品：手套、带子、白轮胎、外科医用橡胶制品、橡胶成型金属模/陶瓷模等。

污染源：指纹、尘垢、防腐剂、油墨、染料、塑料残留物、橡胶残渣。

使用清洗剂：碱性洗涤剂、酸性洗涤剂、中性洗涤剂纯水。

7、酿造/制药工业：

需要清洗的产品：瓶、盖子、标签去除装置、排气装置、处理器皿、处理用器具、充填装置管道等。

污染源：残剩食物、指纹、灰尘、线头、淀粉、染料、蛋白印刷(烘烤前)油、润滑油、硅油。

使用清洗剂：碱性洗涤剂、酸性洗涤剂、中性洗涤剂有机洗涤剂纯水。

8、金融、造币行业：

需要清洗的产品：图章、受理号码牌子、硬币、瓷器、金/银制品等。

污染源：手垢、灰尘、指纹、脏污。

使用清洗剂：中性洗涤剂、碱性洗涤剂纯水。

9、机械/工具/量具/刃具工业：

需要清洗的产品：轴承、螺丝、喷嘴、齿轮、夹具、固定装置用附件、d簧、钻研模具、床身、阀、游标卡尺、挫刀、各类量具、各类刃具、各类机械零件等。

污染源1：磨料、切屑、防腐剂、切削油、冷却油、磨削砂轮孔的堵塞、助熔剂。

污染源2：灰尘、氧化皮

使用清洗剂1：有机性洗涤剂、轻油(洗油等)。

使用清洗剂2：碱性洗涤剂、酸性洗涤剂、中性洗涤剂、纯水。

10、印刷/制版行业：

需要清洗的产品：旋转机、金属板、铅字、母字、药用小玻璃瓶、照相底版、金属底盘等。

污染源：油墨、指纹、油、染料。

使用清洗剂：轻油(石油系洗涤剂)碱性洗涤剂、中性洗涤剂。

11、公共事业、电力、煤气、新闻通讯行业：

需要清洗的产品：各类计量仪表、功率计、各类照明灯具、、隔电瓷瓶、通讯设备关键零部件等。

污染源：油墨、油、灰尘、线头、锈、泥、海盐。

使用清洗剂：有机洗涤剂轻油(石油系洗涤剂)碱性洗涤剂、中性洗涤剂。

12、研究所及其他原子能工业：

需要清洗的产品：控制杆、计数管、泵、铅管类、研究所用的容器、玻璃螺管、玻璃管、分析试料、目镜等。

污染源：放射性粒子、灰尘、沾附污垢、砂砾、硅油、润滑油。

使用清洗剂：碱性洗涤剂、中性洗涤剂纯水有机性洗涤剂。

13、医疗、医学研究行业：

需要清洗的产品：手术器具、牙科钻头、扩孔器、食道镜、支气管镜、直肠镜、膀胱镜、吸液管、玻璃容器、注射器、传感器、试料玻璃等。

污染源：血液、凝胶体、灰尘、线头、指纹、进入血中的污物、残剩的处理物、蛋白。

使用清洗剂：碱性洗涤剂、中性洗涤机消毒剂纯水、蒸馏水。

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