半导体漂移扩散模型中,n是电子浓度,n_d是掺杂浓度,n是不是远远大于n_d啊?

半导体漂移扩散模型中,n是电子浓度,n_d是掺杂浓度,n是不是远远大于n_d啊?,第1张

不,一般载流子浓度约等于掺杂浓度,因为掺杂的目的就是提高载流子浓度,比如Si,ni大约10^10,ND大约10^15,因为掺杂浓度很低没有意义,这样得到的电子浓度就约等于ND了,一般ND是施主能级,如果Si作为半导体材料的话,P(磷)就是施主,(化学元素周期表可知)。每一个P(磷)提供1个电子,所以ND与N是大约相等的。欢迎追问,请采纳。

LG:logic

DR: dram

FL: flash

MD: microdisplay

CIS: cmos image sensor

NROM: flash项目的一个代号

EE: EEPROM

HV: high voltage

SOC: system on chip

你是中心的吧?


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原文地址: http://outofmemory.cn/dianzi/7489999.html

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