从理论计算上来说,二极管正向是一直导通,正向电流是关于正向压降的类指数函数:
当Va很小时,Id很小,近似认为没有电流,二级管是截止的;当va增加到id较为明显时(人为规定的,如1mA)时认为它导通,称对应的Va为正向导通电压VF。由于Id指数增加,所以计算出的VF较小。
受参杂浓度、制作工艺、温度、半导体材料等因素影响VF并非固定不变的,经计算,硅在300K下,一般在0.6-->0.7v左右。通常我们取0.7v(也有的书取0.6v)就可以了。从上面的公式看出当温度升高时,对应的VF也升高,所以说当温度较高时,VF是可能大于0.7v的。参杂浓度也会影响VF,但具体计算比较复杂,不做过多讨论。
上述公式推导涉及半导体物理、器件等内容,比较复杂,具体可以见下面这个ppt上的内容:
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正向导通电压如图示:
1金原子一般做复合中心,是深能级杂志2都是整流,都是正向随着qv指数增加反向几乎饱和,肖特基结比pn导电能力强,无论正反。开启电压pn大,0.6v。pn借功耗大。(2)肖特基对于正向导电是多子器件,载流子无存储,没有寿命的问题,没有寿命,没有扩散电容,所以适合高频。pn正向时,少子器件,电荷存储效应,有电容,不适合高频。
4见2,以为主要是电子在起作用,多子起作用,因为金半接触嘛!
5
阈值电压: Si 表面电子浓度等于空穴浓度的状态,是器件由耗尽向反型转变时,是处于临界导通状态。正如你说“根本不需要表面电子浓度大于体内空穴浓度
”这样MOS器件就不能反型,不能形成沟道,无法正常工作。
第二个能带图的理解问题,我回答不了,能力有限
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