半导体石英件酸洗配比是多少

石英砂酸洗配方

亲！您好，很高兴为您解答。亲石英砂酸洗配方如下：1）配比酸洗液根据石英砂原矿配比酸洗液。2）酸洗混合把酸洗液注入酸洗池中，按照盐酸量为砂重5%左右的比例进行添加，保证石英砂全部被酸洗液浸泡，盐酸量为砂重的5%左右。3）酸洗石英砂①　石英砂浸泡酸洗液的时间一般为3-5小时，具体需要根据石英砂黄皮情况增减浸泡时间，或将酸洗液和石英砂搅拌一段时间，其次可以使用加温设备，将溶液加热至一定温度，都可以减少酸洗时间。②　利用草酸和绿矾作为还原剂酸洗处理可以提高铁质物的溶解度，依次将水、草酸、绿矾按照比例在一定温度下配成溶液，将石英砂和溶液按照一定比例混合、搅拌，处理几分钟，将溶液滤出并处理后回收。③　氢氟酸处理：单独适用氢氟酸处理时效果最好，但需要浓度较高。与连二亚硫酸钠共用时，可使用较低浓度氢氟酸。将一定浓度的盐酸和氢氟酸溶液按照比例同时混入到石英砂料浆中；也可以先用盐酸溶液处理，经水洗后再用氢氟酸处理，在高温下处理2-3小时，然后过滤和清洗。注意事项：若用氢氟酸对石英砂进行酸浸，反应比较复杂。除了铁在酸性介质中的溶解外，HF还能与石英本身发生反应，将表面一定厚度的SiO2及其他硅酸盐溶解掉。但这对于清洁石英砂表面、消除铁质及其他杂质污染更有效，因此，氢氟酸用来对石英进行酸浸效果最好。但是HF有毒，且具有强腐蚀性，因此酸浸废水需要特别处理。4）回收酸液和退酸用清水将酸洗后的石英砂冲洗2-3次，再用0。05%-0。5%的氢氧化钠（片碱）的碱性溶液进行中和，中和时间约为30-60分钟，并要保证所有的石英砂都中和到位。当pH值达到碱性，可以放出碱液，冲洗1-2次，直到pH为中性。5）干燥石英砂石英砂在退酸后要将水分沥出，再将石英砂放入烘干设备干燥。6）筛分、色选及包装等。以上就是石英砂酸洗酸浸处理工艺的基本流程，石英砂矿在我国有着比较广泛的分布，所以石英砂的性质也存在着差异，在对石英砂进行提纯处理的时候还需要具体问题具体分析，制定出最合适的石英砂提纯处理流程。希望我的回答能帮助到您！请问您还有其它问题需要咨询吗？

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石英砂酸洗配方

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石英砂酸洗配方

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金牌答主

您好，为您查询到：目前工业上常见的石英砂环保酸洗配方有草酸+氟化氢铵、草酸+氢氟酸等。

2022-08-23

服务人数3227

石英砂酸洗成本多少少

地瓜一号pi

金牌答主

亲，您好！很高兴为您解答：石英砂酸洗成本多少少答：亲亲您好[开心]，酸洗一吨成本要400-500元石英砂是石英石经破碎加工而成的石英颗粒。石英石是一种非金属矿物质，是一种坚硬、耐磨、化学性能稳定的硅酸盐矿物。石英砂的颜色为乳白色、或无色半透明状，莫氏硬度7。石英砂是重要的工业矿物原料，非化学危险品，广泛用于玻璃、铸造、陶瓷及防火材料、冶炼硅铁、冶金熔剂、冶金、建筑、化工、塑料、橡胶、磨料，滤料等工业。

2022-08-03

服务人数9981

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好评答主

亲，很高兴为您解答：石英砂酸洗成本多少少答酸洗一吨成本要400-500元实际上酸洗石英砂滤料是一种化学性质非常稳定的矿物，一般只要用普通的储藏方法就能保证石英砂不会变质。但还要强调的是，尽管石英砂的化学性质非常稳定，但在贮存过程中仍有一些问题需要注意。石英砂滤料不要与托盘料及其他类型的滤料堆叠，以免影响过滤性能，另外石英砂滤料不能与有毒或污染物质堆叠，石英砂滤料与这些物质堆叠的时间过长就会失效，而且不要漏天存放。

2022-08-03

服务人数7960

石英石如何酸洗干净

是小李学长

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亲，石英石酸洗干净方法：，1.普通污渍:只要用沾水的抹布将它擦拭干净。，2.油污:可以用小苏打加入白醋擦拭台面,去污效果很好,再用清水擦拭干净。，3.铁锈:可以把牙膏涂抹在铁锈处,过一会再用湿布擦拭干净。，4.凝固污垢:需要用刮板去除,再用清洁剂和抹布擦拭干净。

2022-05-08

服务人数7761

酸洗石英石怎样脱酸洗

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您好，亲亲，酸洗石英石脱酸洗的具体步骤是：步骤一、将盐酸或硝酸中至少一种酸液酸洗后的石英砂冲洗后，将酸洗石英砂在碳酸氢钠溶液中浸泡后过滤，用去离子水冲洗；步骤二、向冲洗后的酸洗石英砂中加入去离子水，得到第一混合物后，接种反硝化细菌，并加入琼脂块，密闭静置后分离出琼脂块，将第一混合物中水浴加热后，过滤，用去离子水冲洗；步骤三、向冲洗后的酸洗石英砂中加入去离子水得到第二混合物后，在第二混合物中加入活性炭，0.5～1h后，分离出活性炭，过滤，得到的酸洗石英砂用去离子水冲洗即可。本发明通过先弱碱洗、再利用反硝化细菌、活性炭清除残留在酸洗石英砂表面的杂质离子，使酸洗石英砂更纯净，颜色更洁白哦，感谢您的咨询，很高兴能为您解答，希望能帮助到您，祝您：生活愉快，工作顺利，平安健康！

2022-11-21

服务人数961

石英砂酸洗配方 — 找答案，就来「问一问」

301位专家解答

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在湿法腐蚀的过程中，通过使用特定的熔液与需要腐蚀的薄膜材料进行化学反应，进而除去没有被光刻胶覆盖区域的薄膜。 湿法腐蚀的优点是工艺简单，但是在湿法腐蚀中所进行的化学反应没有特定方向，所以会形成各向同性的腐蚀效果。各向同性是湿法腐蚀固有的特点，也可以说是湿法腐蚀的缺点。湿法腐蚀通常还会使位于光刻胶边缘下边的薄膜也被腐蚀，这也会使腐蚀后的线条宽度难以控制，选择合适的腐蚀速度，可以减小对光刻胶边缘下边薄膜的腐蚀。 在进行湿法腐蚀的过程中，熔液里的反应剂与被腐蚀薄膜的表面分子发生化学反应，生成各种反应产物。这些反应产物应该是气体，或者是能溶于腐蚀液中的物质。这样，这些反应产物就不会再沉积到被腐蚀的薄膜上。控制湿法腐蚀的主要参数包括：腐蚀溶液的浓度、腐蚀的时间、反应温度以及溶液的搅拌方式等。由于湿法腐蚀是通过化学反应实现的，所以腐蚀液的浓度越高，或者反应温度越高，薄膜被腐蚀的速率也就越快。此外，湿法腐蚀跌反应通常会伴有放热和放气。反应放热会造成局部反应温度的升高，使反应速度加快；反应速率加快又会加剧反应放热，使腐蚀反应处于不受控制的恶性循环中，其结果将导致腐蚀的图形不能满足要求。反应放气产生的气泡会隔绝局部的薄膜与腐蚀的接触，造成局部的反应停止，形成局部的缺陷。因此，在湿法腐蚀中需要进行搅拌。此外，适当的搅拌（例如使用超声波震荡），还可以在一定程度上减轻对光刻胶下方薄膜的腐蚀。 目前常用的湿法腐蚀的材料包括：Si，SiO2和Si2N4等，下面我们将对此进行简要讨论。 一、Si的湿法腐蚀 在湿法腐蚀Si的各种方法中，大多数都是采用强氧化剂对Si进行氧化，然后利用HF酸与SiO2反应来去除SiO2，从而达到对硅的腐蚀目的。最常用的腐蚀溶剂是硝酸与氢氟酸和水（或醋酸）的混合液，化学反应方程式为 Si+HNO3+6HF——H2SiF4+HNO2+H2O+H2 其中，反应生成的H2SiF4可溶于水。在腐蚀液中，水是作为稀释剂，但最好用醋酸（CH3COOH），因为醋酸可以抑制硝酸的分解，从而使硝酸的浓度维持在较高的水平。对于HF-HNO3混合的腐蚀液，当HF的浓度高而HNO3的浓度低时，Si膜腐蚀的速率由HNO3浓度决定（即Si的腐蚀速率基本上与HF浓度无关），因为这时有足量的HF去溶解反应中生成的SiO2.当HF的浓度低而HNO3浓度高时，Si腐蚀的速率取决于HF的浓度（即取决于HF溶解反应生成的SiO2的能力）。 对Si的湿法腐蚀还可以用KOH的水溶液与异丙醇（IPA）相混合来进行。对于金刚石或闪锌矿结构，（111）面的原子比（100）面排的更密，因而（111）面的腐蚀速度应该比（100）面的腐蚀速率小。 采用SiO2层作为掩膜对（100）晶向的硅表面进行腐蚀，可以得到V形的沟槽结构。如果SiO2上的图形窗口足够大，或者腐蚀的时间比较短，可以形成U形的沟槽。如果被腐蚀的是（110）晶向的硅片，则会形成基本为直壁的沟槽，沟槽的侧壁为（111）面。这样就可以利用腐蚀速率对晶体取向的依赖关系制得尺寸为亚微米的器件结构。不过，这种湿法腐蚀的方法大多采用在微机械元件的制造上，在传统的集成电路工艺中并不多见。 二、SiO2的湿法腐蚀 SiO2的湿法腐蚀可以使用氢氟酸（HF）作为腐蚀剂，其反应方程式为： SiO2+6HF——SiF4+2H2O+H2 在上述的反应过程中，HF不断被消耗，因此反应速率随时间的增加而降低。为了避免这种现象的发生，通常在腐蚀液中加入一定的氟化氨作为缓冲剂（形成的腐蚀液称为BHF）。氟化氨分解反应产生HF，从而维持HF的浓度。NH4F分解反应方程式为 NH4F——NH3+HF 分解反应产生的NH3以气态被排除掉。 在集成电路工艺中，除了需要对热氧化和CVD等方式得到的SiO2进行腐蚀外，还需要对磷硅玻璃（简称PSG）和硼磷硅玻璃（简称BPSG）等进行腐蚀。因为这些二氧化硅层的组成成分并不完全相同，所以HF对这些SiO2的腐蚀速率也就不完全一样。基本上以热氧化方式生成的二氧化硅层的腐蚀速率最慢。 三、Si3N4的湿法腐蚀 Si3N4也是一种常用湿法腐蚀的材料。Si3N4可以使用加热的磷酸（130-150度的H3PO4）来进行腐蚀。磷酸对Si3N4的腐蚀速率通常大于对SiO2的腐蚀速率。

半导体材料表面的污染物主要有二类：有机污染物和金属离子污染。一号液主要是清除有机污染物如油脂等的，二号液则主要清除金属离子污染。只有先清除材料表面覆盖的油污，才能彻底清除油污下面的离子污染物。所以应该先用一号液清洗，然后再用二号液清洗。

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