如何用电化学工作站测半导体特性

如何用电化学工作站测半导体特性,第1张

我们实验室是这么做的:采用三电极体系,其中以涂在导电基底(如ITO)的半导体材料为工作电极,对电极为高纯石墨或Pt,参比要根据你溶液体系来定(这些和5楼的一样:hand:),电解液组成要根据你材料的特性和研究目的选择,建议你可以多看看你所研究材料及相关测试所用电解液的参考文献,尽量拿参考文献最常用的;采用恒电势极化测试技术来测量i-t曲线,测量时间需要根据你研究目的来定,如你仅仅看看光电流大小,那么时间可以设置短点,如果是研究光电流稳定性测试时间就要选长点(但测量时间长,有些电化学工作站测量取点就比较稀,如273)。测量时,给工作电极加上给定电极电势(有些体系也可不加),待电流稳定后,给工作电极照射按一定周期通、断的光,我们是做了个自动装置,也可以手动通、断光。为了避免长时间测量时红外加热测试系统,有时会在光和测量系统之间加个水柱。

还有一些细节,比如光通断周期和电极电势选择等什么的,你可能得自己先做个探索实验或查查文献了

大多数半导体的电阻率会随着温度和光照而变化,一般来说,你把半导体加热或者用强光照射,它的电阻率会变小。

简单的方法就是,用一个万用表,测一测这个物体在加热或者光照前后有没有电流变化。


欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出

原文地址: http://outofmemory.cn/dianzi/7584202.html

(0)
打赏 微信扫一扫 微信扫一扫 支付宝扫一扫 支付宝扫一扫
上一篇 2023-04-07
下一篇 2023-04-07

发表评论

登录后才能评论

评论列表(0条)

保存