而最拖国产芯片制造产业后腿的，无疑就是光刻设备了。因为全球能生产中高端光刻机的只有荷兰ASML，但它却因为《瓦森纳协定》而被老美限制对华自由出货。
不过，令人振奋的是，在中科院与国产设备企业的共同努力下，国产光刻机取得了实质性的进展，不仅突破了EUV三大核心技术，而且上海微电子的国产中端光刻设备也将在年底正式落地。这意味着，我们将很快实现7nm及以上所有工艺制程芯片的国产化。
但没想到的是，在我们即将赢下与美的 科技 博弈之时，日本却落井下石，日本信越化学公司做出决定，将断供中企的高端光刻胶材料。
虽然光刻胶在芯片产线上的技术占比不足1%，但却被称为造芯的“燃料”，与光刻机一样，都有着无可替代的作用。日本是全球最大的高端光刻胶生产地，市场占有率超过了90%。
很显然，光刻胶的突然断供，对正处爬坡阶段的“中国芯”造成了不小的影响，如果快速解决，必然会打乱国产芯片产业的发展规划。
令人振奋的是，在这关键时刻，国内材料巨头传出了好消息。
据媒体报道，在8月25日，晶瑞电材在投资者互动平台表示：公司的光刻胶产品已经完成升级，达到了国际中高级水准！
作为承接专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目的重点公司，晶瑞在光刻胶领域已摸爬滚打三十年，虽然日本一直封锁尖端光刻胶技术，但晶瑞凭借着不懈的研发努力，依然实现了稳步前行。
如今，在“中国芯”最需要助力的时刻，晶瑞不负众望地完成了任务。
晶瑞方面透露，自主研发的g/i线光刻胶已向中芯国际、合肥长鑫等半导体厂商供货，为芯片的国产化提供了巨大的助力。而且，自研的Krf（248nm深紫外）光刻胶完成了中级测试，现已进入了最后的客户测试阶段，量产在即。
除了晶瑞之外，南大光电自研的高端Arf光刻胶项目在前段时间也已正式落地，而且还打通了国内光刻胶市场。
综合来看，国产光刻胶市场生态虽然不如日本企业那么成熟，但却做到了全系突破，完全不用再依赖于进口，而且在国内芯片市场的内需刺激下，有机会在短时间内冲击日本光刻胶“霸主”的地位。
日本断供光刻胶或许是受到了某国的“指点”，妄图以此来遏制我国芯片产业的崛起。
但如今的结果显然是得不偿失，不仅加速了我国在光刻胶领域的研发进展，让我们一举摆脱了依赖；更重要的是，随着中国光刻胶材料技术的继续强化，物美价廉的中国产品，必然让日本光刻胶失去市场的唯一性，变得无人问津。
随着人们生活的智能化，芯片的地位越来越重要，已成为手机、电脑、航天、通信、智能 汽车 等行业发展的基础，是世界各国今后在 科技 领域竞争取胜的关键。
受多种因素的影响，国内企业所使用的芯片大部分来自西方国家。 在我国企业未能危及西方国家企业行业话语权的时候，我们可以随意地购买到自己发展所需的任何芯片。但随着我国 科技 的不断崛起，国内企业不断实现反超，以美方为首的西方国家开始对我们实行芯片封锁。
2018年，美国以莫须有的罪名，将中兴列入黑名单，禁止其在七年内从美企手中购买核心元器件；2019年，美商务部突然将华为列入“实体清单”，禁止美企与之合作，且在一年之后，修改世界半导体行业规则，切断华为所有芯片来源，给华为的发展造成了极大的影响。
华为由于芯片不足，手机无法生产，被迫让出大部分市场份额。据第三方公布的数据显示， 华为2021年第一季度国内智能手机市场份额占比约为16％，海外市场份额占比约为4％，要知道，华为去年同期国内市场份额占比约为43％，海外市场份额占比约为18.3％。由此可见，美国的釜底抽“芯”，给华为的发展造成了多大的影响。
美国对华为等我国 科技 企业的所作所为，让我们明白了一个真理，在当今这个时代，企业要想摆脱被人鱼肉的命运，就必须掌握核心技术，实现技术独立！
2020年7月，国家正式下达铁令，要在2025年让国产芯片的自给率达到70％以上。为了实现这一伟大目标，国家做了很多重大布局，如成立国内首所芯片大学、打造世界级集成电路基地、出台免征税政策等，工信部也放出了“能给尽给，应给尽给”的狠话等。
所幸的是，在国家的大力之下，国内企业、科研机构、高校不辱使命，不但在EUV光刻机的研发上取得了重大突破，化学材料也取得了可喜可贺的成绩！
7月5日，国内光刻胶巨头晶瑞股份正式发布2021年半年度业绩报告，据报告数据显示，晶瑞股份上半年的净利润达到了14690万元，同比增长456.58%！
除此之外，晶瑞股份成功研制出KrF光刻胶，已进入客户测试阶段，不久就可实现大规模量产，填补国内技术空白！
关注集成电路行业发展的朋友都知道，光刻胶是制造芯片的核心化学材料，光刻胶质量的好坏，直接影响着芯片的质量和良品率，且光刻胶市场一直被日本企业垄断着，市场份额占比高达70%以上，而我国企业的市场份额占比不足1％！
在美国对我国企业实行芯片制裁的情况下，以日本的德行来看，我们很有必要实现光刻胶的国产化。
如今，晶瑞股份成功研制出KrF光刻胶，填补国内技术空白，又为国产芯片行业的发展添加了一道保障。
笔者坚信，随着国家支持半导体行业发展力度的加大，企业的坚持，国内科研人员的努力，我们一定能打破美方的芯片封锁，实现芯片的国产化！
光刻胶有成为光制扛蚀机是光刻成像的承载介质，可以利用化学反应原理讲光哥系统中经过滤波颜色后的光信息转化为能量，完成掩膜图形的复制。 有消息称，日本东北213地震使得其企业的光刻胶出现了供应告急的问题，而信越更是宣布了关闭厂区，要知道日本信越占据全球光刻胶市场的20%。而光刻胶又是半导体的关键材料，日本信越宣布关闭厂区，就意味着全球光刻胶出现了供不应求的情况，其所带来的连锁反应就是加剧了芯片急慌的问题。
有相关数据显示，2018年之中，全球半导体市场结构之中光刻胶的占比达到了5.24%，被称之为半导体的核心材料。在全球半导体光刻胶市场之中，日本企业可以说是一家独大的，随随便便就能够形成垄断的现象，其占比达到了80%。其中前面讲到过的信越以及住友化学和TOK等等都是光刻胶市场领域之中的巨头，可是日本此次突发地震，使得光刻胶市场1度面临供不应求的状况。
我们国家在光刻胶领域几乎是一片空白。不过，目前已经有很多中国企业正在不断的追求国产替代，在PCB光刻胶市场，这种国产化率已经达到了50%。 虽然只是门槛相对较低的市场，但好歹也算是一定的成就吧，而在LCD光刻胶市场之中，国产化已经达到了5%。在这种领域之内，其实我们还需要面临很大的挑战。而此次日本光刻胶出现告急的情况，给中国的企业带来了一定的机遇。
目前，我们国家已经涌现了很多的光刻胶领头企业，填补在这上面所遇见的空白，其中就包括晶瑞股份，南大光电，上海新阳等等。在南大光电的努力之下，企业发的ARF193纳米光刻胶，已经通过了客户使用认证，成为中国首只通过产品验证的国产ARF光刻胶，代表着在光刻胶领域之中，我们又向前一步。除了南大光电之外，晶瑞股份也传来了消息，其KrF光交已经进入了客户测试阶段。要知道，晶瑞股份曾经花费巨资达到1102.5万美元从sk海力士手中收购了阿斯买的光刻机设备。这种光科技能够研发出最高28纳米的光刻胶。对于晶锐股份的ARF光刻胶以及ARfi光刻胶有着一定的推动作用。
而上海信阳花费7.32亿元推动集成电路制造，其中ARF光刻胶与KrF光刻胶成为其公司项目的主要攻克方向。不管是南大光电还是晶锐股份，又或者是上海新阳，这些企业为中国在光刻胶领域上面的发展填上了一笔又一笔色彩，使得我们在这个领域之中不再是小白的状态。除了在光刻胶领域之中，我们在其他很多领域之中也都获得了一定的成就。相信在全国上下无数企业的努力之下，我们一定能够完成在半导体内各个领域之中的突破。虽然我们底子薄弱，但是我们有不服输的精神，尽管我们起步晚，但是我们有决心。我们不能够决定我们在全球领域内会拥有多大的地位，但是我们能够决定我们付出多少就会收获多少。
欢迎分享，转载请注明来源：内存溢出
微信扫一扫
支付宝扫一扫
评论列表（0条）