封装之后的测试不熟,有FT、SLT等,具体不详,yield map一类,以前在fab的时候,看到的是结果,具体测法不详,说一下fab芯片制造完成之后的测试吧。
1,出厂必测的WAT,wafer acceptance test,主要是电性能测试,每一类晶体管的参数,电压电容电阻等,每一层金属的电阻,层间的电容等,12寸厂的晶圆抽测9颗样点,均匀分布在整个wafer上,答主熟悉的55nm技术,每一个样点上必测70~120个参数,整片wafer测完约需要10~15分钟,设备主要是安捷伦和东电的;
2,在晶圆制造过程中监测膜厚、线宽等,膜厚是13点,线宽是9点;
3,光学镜头芯片还会测试wafer的翘曲度、整体厚度值,要配合后端芯片的再制备;
4,在测试芯片(非生产性正常检测)的时候,还会测试NBTI、TDDB、GOV等;
5,其他根据芯片特性的测试。
集成电路无尘车间是为了满足半导du体制造工艺需求的洁净室,该无尘车间对环境洁净度、温湿度、振动、ESD、AMC控制等都有一定的要求。相对于其他工业洁净室,集成电路制造无尘车间有面积大、洁净等级高、温湿度控制精度高等特点。
远程在线式遥测激光尘埃粒子计数器是几乎每个精密电子车间必不可少的设备,如果在我们的半导体车间中有这样一种监测颗粒浓度的仪器,那么我们在办公室时就可以轻松了解车间中尘埃粒子情况,实现产品生产与监督智造的智能体验。例如,当我们检测到车间内的颗粒浓度过高时,我们可以及时通知相应车间的负责人,并采取针对性的措施降低颗粒浓度,以达到安全可靠的标准,这非常有利于产品的安全生产,为客户提供可靠的高质量产品。
CW-RPC系列远程遥测激光尘埃粒子计数器是深圳赛纳威研发的智能多点净化检测系统的终端设备,不仅可以为用户提供实时准确地远程测量所监控环境的微粒数量和净化等级,根据不同需要增加或减少控制终端,还可以实现7*24实时远程自动监测,通过RJ45网络接口、WiFi、485(moudbus)等,将数据送给PC终端,显示当前监测环境的洁净状况。该粒子计数器按照国际标准ISO14644-1,GMP和日本工业标准(JIS)要求标定,专业应用于电子行业、制药车间、半导体、光学或精密机械加工等洁净室环境自动监测系统。
欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
评论列表(0条)