半导体工艺废气如何处理？

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半导体行业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分，在工艺过程中，这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主体是VOCs，同时废气中还混合了HCl、氨、HF等危险污染物。

半导体有机废气处理办法

采用RTO设备处理

RTO蓄热式氧化炉是在高温下将可燃废气氧化成氧化物和水，净化废气，并回收废气分解时所释放出来的热量，废气分解效率达到99%以上，热回收效率达到95%以上。

直接燃烧法处理

有机废气风管废气收集→沸石转轮吸附浓缩→直燃炉（TO）→烟囱排气达标排放。

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采用离子交换来制取其原理原水含有盐类Ca(HCO3)2、Mgso4等盐类,流经交换树脂时,阳离子Co2+、Mg2+等被阳树脂活性基团置换,阴离子HCo3-、So42-等被阴树脂活性基团置换,从而水得纯化.原水重碳酸盐含量较高,应阴阳离子交换柱间设脱气塔,除去CO2气体,减轻阴床负荷.般复床(阳离子交换柱、阴离子交换柱)出水其电导率达10s/cm下,若水源水质较好其产水电导率达5s/cm下,混合离子交换柱般作处理放置于复床或反渗透系统使产水电导率达18m.Ωcm高纯水. 作用:广泛用于轻工、纺织、医药、生物、电子能还用于食品药物脱色提纯、贵重金属、化工原料回收、电镀废水处理 去离子水设备适用范围超纯水经常用于微电子工业、半导体工业、发电工业、制药行业和实验室CEDI纯水也作制药蒸馏水、食物和饮料生产用水、化工厂工艺用水及其超纯水应用领域 1、制取电子工业生产显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路芯片、单晶硅半导体等工艺所需纯水、高纯水……………… 详细资料请参考:on

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