抛光液是用什么材料做的

抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品超过原有的光泽。本产品性能稳定、无毒，对环境无污染等作用，光液使用方法：包括棘轮扳手、开口扳手，批咀、套筒扳手，六角扳手，螺丝刀等，铅锡合金、锌合金等金属产品经过研磨以后，再使用抛光剂配合振动研磨光饰机，滚桶式研磨光式机进行抛光；1抛光剂投放量为（根据不同产品的大小，光饰机的大小和各公司的产品光亮度要求进行适当配置），2：抛光时间：根据产品的状态来定。3、抛光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。

抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类：金刚石抛光液（多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液）、氧化硅抛光液（即CMP抛光液）、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。

多晶金刚石抛光液

多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。

主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。

氧化硅抛光液

氧化硅抛光液（CMP抛光液）是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。

广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。

氧化铈抛光液

氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。

适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。

氧化铝和碳化硅抛光液

是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。

主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。

肯定不能直接排放的哦，目前市面上的环保抛光液一般都属于弱酸性，并且含有一定量的氧化剂，抛光液在使用后，溶液中还会积累一定的铜离子，所以综上所述不能直接排放，排放前可以先将铜离子沉淀出来，然后再调整溶液的PH接近中性才能排放。如果溶液中含有三价铬或者六价铬那就更不能直接排放了。

铜材化学抛光液配方主要分为三种：

传统铬酸盐体系工艺，该工艺主要是利用六价铬的强氧化性来对铜材进行抛光的，由于其用到了有强致癌性的六价铬目前已经被禁止使用了。

传统的三酸体系工艺，该工艺主要是利用硝酸、硫酸、盐酸等无机酸配合来进行抛光的，由于其含有硝酸，在反应过程中会放出大量的黄烟（氮氧化物）有剧毒，会对 *** 作人员和环境造成严重污染，目前也已经被大面积限制或禁止使用了。

环保体系工艺，该系列最常用的有双氧水体系抛光液，该体系主要利用双氧水的强氧化性来对铜进行抛光处理，但是双氧水易分解导致其使用时有较大的制约性。

新型环保铜材酸洗抛光液，目前凯盟——美贝仕研究开发了一款型不含有毒重金属、不含硝酸及其盐、不含磷酸及其盐、不含双氧水的环保酸洗抛光液，已经推上市场使用取得了较好的市场效应。

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