对半导体性能都有很大影响的外界因素有哪些

对半导体性质影响最大的是温度：禁带宽度与温度有关；载流子浓度更是与温度有关；载流子迁移率也与温度有关；半导体的体积等也与温度有关（热膨胀）。

光照影响：可产生非平衡载流子，导致光电导。

压力影响：压阻效应。

接触影响：形成pn结、金属-半导体接触等。

电场影响：可产生场致发射等。

磁场影响：半导体的Hall效应远大于金属。

气氛影响：表面状态与气氛有很大关系。

温度升高可以加强半导体内部的本征激发强度，借以增大其内部载流子的浓度，此时半导体的导电能力增强；半导体有一种压阻效应，就是随着加载在半导体上的压力变化，半导体的电阻率会随之变化，且二者具有正比关系，此时表现为，压力越大，半导体的导电性能越弱；掺杂即在制作半导体时在其内部掺入相应的杂质元素，这个对半导体的导电能力是具有决定性作用的，如果掺入的是五价元素如磷或砷等，那么在形成共价键的时候就会有一个多余的自由电子，此时半导体内部就会有大量的电子作为载流子，故名n型半导体（negative），若是掺入三价元素，此时半导体内部的四价元素就会有一电子无法成键，形成空穴，空穴带正电性，所以名为p型半导体···目前改善半导体导电性的应该就是这几种方法吧···其余的即使有也是很偏的，用处很少的~

所谓压阻效应，是指当半导体受到应力作用时，由于载流子迁移率的变化，使其电阻率发生变化的现象。它是c.s史密斯在1954年对硅和锗的电阻率与应力变化特性测试中发现的。压阻效应的强弱可以用压阻系数π来表征。压阻系数π被定义为单位应力作用下电阻率的相对变化。压阻效应有各向异性特征，沿不同的方向施加应力和沿不同方向通过电流，其电阻率变化会不相同。譬如：在室温下测定n型硅时，沿（100）方向加应力，并沿此方向通电流的压阻系数π11=102.2×10-11m2/n；而沿（100）方向施加应力，再沿（010）方向通电流时，其压阻系数π12=53.7×10-11m2/n。此外，不同半导体材料的压阻系数也不同，如在与上述n型硅相同条件下测出n型锗的压阻系数分别为π11=5.2×10-11m2/n；π12=5.5×10-11m2/n。

压阻效应被用来制成各种压力、应力、应变、速度、加速度传感器，把力学量转换成电信号。例如：压阻加速度传感器是在其内腔的硅梁根部集成压阻桥（其布置与电桥相似），压阻桥的一端固定在传感器基座上，另一端挂悬着质量块。当传感器装在被测物体上随之运动时，传感器具有与被测件相同的加速度，质量块按牛顿定律（第二定律）产生力作用于硅梁上，形成应力，使电阻桥受应力作用而引起其电阻值变化。把输入与输出导线引出传感器，可得到相应的电压输出值。该电压输出值表征了物体的加速度。

半导体压阻传感器已经广泛地应用于航空、化工、航海、动力和医疗等部门。

它有以下优点：

①灵敏度与精度高；

②易于小型化和集成化；

③结构简单、工作可靠，在几十万次疲劳试验后，性能保持不变；

④动态特性好，其响应频率为103～105hz。

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