氯气用途十分广泛，可用于生产半导体材料硅，其生产流程如图，下列说法不正确的是（　　）A．①③是置换

A．二氧化硅与碳反应生成硅和一氧化碳，四氯化硅与氢气反应生成硅和氯化氢，都是置换反应，硅和氯气反应生成四氯化硅，是化合反应，故A正确；

B．二氧化硅与碳反应生成硅和一氧化碳，四氯化硅与氢气反应生成硅和氯化氢，根据还原剂的还原性大于还原产物的还原性，则高温下，焦炭与氢气的还原性均强于硅，故B正确；

C．28 g硅的物质的量为1mol，每消耗或生成1个硅，化合价均变化4，即均转移4个电子，所以每消耗或生成28 g硅，均转移4 mol电子，故C正确；

D．在高温下将石英砂、焦炭、氯气、氢气按一定比例混合，则石英砂与焦炭反应，氯气与氢气反应，就不再按照题干的流程进行，不会得到高纯硅，故D错误；

故选D．

（1）惰性电极电解饱和食盐水生成氯气、氢气和氢氧化钠，反应的化学方程式为：2NaCl+2H2O

通电  .

2NaOH+H2↑+Cl2↑，

故答案为：2NaCl+2H2O

通电  .

2NaOH+H2↑+Cl2↑；

（3）①石英砂的主要成分是二氧化硅，制备粗硅发生SiO2+2C

高温  .

Si+2CO↑，二氧化硅和碳在高温下反应生成硅和一氧化碳，反应中二氧化硅为氧化剂，碳为还原剂，

故答案为：SiO2；还原剂；

②粗硅与氯气反应后得到沸点较低的液态四氯化硅，其中常混有一些高沸点、难挥发性杂质，因沸点不同，则分离提纯法选蒸馏法，故答案为：蒸馏；

③四氯化硅与氢气在高温条件下反应得到高纯硅和氯化氢气体，该反应为SiCl4+2H2

高温  .

Si+4HCl↑，

故答案为：SiCl4+2H2

高温  .

Si+4HCl↑．

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