液体源可以为半导体器件提供各种元素的原子,比如硅、氮、磷、钨、铜、铝等。这些元素可以被喷涂、喷射或打印到半导体材料表面,形成微小的电子元件。通过控制液体源的质量和流量,可以精确地形成所需的化学反应,使得器件的形成更为准确、可靠。
半导体液体源的研发和制造需要高度专业的化学和材料科学技术,对此进行系统化的研究,是半导体工业的重要领域之一。
DNS是厂商名字,中文叫迪恩士,就是化学清洗槽(也叫酸槽/化学槽),主要有HF,,H2SO4,H2O2,HCL等酸碱液体按一定比例配置,目的是为了去除杂质,去离子,去原子,最后还有DI清洗。IPA是异丙醇,就是工业酒精,是用来clean机台或parts的,是为了减少partical的。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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