下面以光谱测试法为例介绍半导体材料光学带隙的计算方法:
ah v -B0HEg)u ( 1) .
其中a为摩尔吸收系数, h为普朗克常数,v为入射光子频率,B为比例常数,Eg
为半导体材料的光学带隙,m 的值与半导体材料以及跃迁类型相关:
推导1:根据朗伯比尔定律可知:
A=ab c?(2)
其中A为样品吸光度,b 为样品厚度,c为浓度,其中be为一常数,若
B1=(B/be)1/m,则公式(1)可为:
(Ahv1)m=B1(hv-Eg) (3)
根据公式(3),若以hv值为x轴,以(Ah v )1/m值为y轴作图,当y=0时,反向延
伸曲线切线与x轴相交,即可得半导体材料的光学带隙值Eg。
禁带宽度是半导体的一个重要特征参量,其大小主要决定于半导体的能带结构,即与晶体结构和原子的结合性质等有关。禁带 宽度的大小实际上是反映了价电子被
束缚强弱程度的一个物理量,也就是产生本征激发所需要的最小能量。
禁带宽度可以通过电导率法和光谱测试法测得,为了区别用电导率法测得禁带宽度值,用光谱测试法测得的禁带宽度值又叫作光学带隙。
物质吸收光其实就是将光子能量吸收了。可见光的光子能量范围为1.8~3.1eV,半导体和绝缘体能吸收哪些光取决于其带隙(Eg),带隙值大于3.1eV的物质不吸收光,呈无色透明;若只吸收1.8~3.1eV范围内的一部分,那么该物质就会呈现颜色。金属不存在带隙,对光的吸收与半导体和绝缘体的情况有区别,具体怎样的我就不知道了。(参考上海交通大学《材料科学基础》(第三版)10.5.6和10.5.8)欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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