半导体镀膜工艺是什么

半导体镀膜工艺是什么,第1张

镀膜工艺一般是PVD和CVD。PVD:物理气相沉积。通过plasm轰击金属靶材(金靶,铜靶,Al,Cr.....),金属原子脱离靶材,落在wafer表明,形成薄膜。CVD:化学气相沉积。这个是通过化学反应,在晶圆表面张氧化薄膜。

好。

1、2018年至2022年镀膜行业对市场需求呈现曲线上升的趋势,工作岗位多。

2、浙大的镀膜专业投资比重大,技术能力过硬,注重人材培养,所以就业前景好。

从事的工作主要包括:

(1)使用加热蒸发、电子束蒸发等真空蒸发设备,将镀膜材料沉积在真空电子器件和电光源器件的内壁、零部件表面或半导体分立器件和集成电路芯片的表面上,生成金属、非金属或半导体膜层;

(2)使用磁控溅射、射频溅射、直流溅射等真空溅射设备,将镀膜材料沉积在基片或芯片表面上,生成金属、非金属或半导体膜层。

下列工种归入本职业:

电光源真空蒸镀工,增强管涂膜工,真空镀膜工


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