请问二氧化硅、氮化硅和磷原子在半导体制造中的作用分别是什么？

如果想了解这些知识首先要知道半导体制造中最重要的最基础的是PN结，晶体管、MOS管都是以此为基础制造出来的。而p作为掺杂剂，用于形成n型半导体。二氧化硅主要是做掩蔽膜。氮化硅本身就是半导体，既可以做掩蔽膜又可以做异质结，作为第三代半导体，它有很大的发展潜力

氮是具有最高电负性的元素之一，只有氧，氟和氯比它更高。这就意味着氮化物由一大组化合物构成。它们有广泛的性质和应用。

折射材料

润滑剂，如六方氮化硼—BN

切割材料，如氮化硅—Si3N4

绝缘体，如氮化硼—BN、氮化硅—Si3N4

半导体，如氮化镓—GaN

金属镀膜，如氮化钛—TiN

储氢材料，如氮化锂—Li3N

氮化物可分为离子氮化物、共价氮化物、间隙氮化物及之间的混合类型。

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