洗涤塔电导率1500正常吗

洗涤塔电导率1500正常吗？

答案如下：洗涤塔电导率1500正常的。洗涤塔，是指半导体生产厂用于薄膜、扩散、蚀刻等半导体制程区域生产设备端就近进行废气处理的辅助机器。局部气体洗涤塔是半导体行业废气处理系统的重要组成部分，其主要作用是处理废气、蒸汽和悬浮颗粒物。

#P#半导体厂务制程排气系统半导体厂务系统，大都可区分仪电(69KV变电所及11.4KV变电站系统、480 / 277 / 120V系统、发电机系统、PC / CV系统、空压机系统、FMCS系统、电话系统、门禁系统)、系统工程(纯水系统、PCW系统、City Water系统、废水处理系统、气体供应系统、化学供应系统)、机械工程(洁净系统、Chiller &Hot water系统、废气处理 / 排气系统)、装机专案(给水 / 排水配管、气体 / 排气配管、真空配管、电力配线、厂商管理系统)、厂区服务(一般水电维护、土木及装潢、景观园艺、TPM预防保养)。今就其废气处理及排气系统加以说明如下。在半导体生产环境中，不同的设备机台会产生不尽相同的化学性废气，虽然部份设备机台本身有前废气处理设备，仍然不能避免处理设备失效之问题。另外晶片生产制程中也使用了大量的易燃溶剂与化学品，因此必须将它们做有效的分类与处理，以避免在管路中因二度化学反应产生危险，并降低废气排放及符合环境法规要求， 因此废气排放处理系统在此就扮演著很重要的角色。废气排放处理系统(Air Abatement System，简称AAS)，其排气管路可区分为General Exhaust System (GEX)、Scrubber Exhaust System (SEX)、Ammonia Exhaust System (AEX)、VOC Exhaust System (VEX)。General Exhaust System (GEX)生产过程机台本身会产生热源、particle与无害气体，但考虑无尘室空调与过滤装置负荷，及生产环境温度的舒适性，因此将此废气以一般风车抽取排放至大气环境，不需做任何处理(图一)。#F#图一：General Exhaust SystemScrubber Exhaust System (SEX)在晶片生产过程中，制程设备会使用大量的化学品，其大都涵盖大量酸性与少量碱性等腐蚀性化质。如果未将此类化学性废气加以处理而排放，则势必会严重冲击我们的环境。 SEX设备主要是一湿式洗涤塔(Scrubber)，利用碱性(NaOH)循环水冲洗制程排放的酸性废气，并藉由酸碱中和原理将排气中性化而不具腐蚀性，而排气的化学物质经冲洗沉降并定量排放至废水处理场做进一步处理(图二)。#F#图二：Scrubber Exhaust SystemAmmonia Exhaust System (AEX)AEX (图三)最主要是处理制程设备所产生的Ammonia (阿摩尼亚，NH3)。处理设备本身主要也是一湿式洗涤塔(Scrubber)，利用酸性(H2SO4)循还水冲洗制程排放中所含有的Ammonia废气，废气中的化学物质NH3经冲洗而溶於循还水中，废气再进入SEX处理，其洗涤塔废水定量排放至废水处理场做进一步处理。 #F#图三：Ammonia Exhaust System而Ammonia 的废气不直接进入SEX处理，乃是Ammonia (NH3)的废气与SEX内的氯与氟根离子(CL-, F-) 产生反应，生成白色的氯化氨或氟化氨(NH4CL, NH4F)粉尘结晶，会造成管路阻塞，环境污染与烟囱排放不透光率不符环保法规要求。VOC Exhaust System (VEX)Volatile organic compounds (VOCs)其特徵和酸碱不同，且较难处理。若未处理直接排至大气环境，会有污染空气，造成空气品质下降之风险。一般来说VEX处理系统主要分为两大部份：(1) ACT 690 Condenser (冷凝器) only for partial equipment；(2)沸石转轮(Zeolite roller)。ACT 690 Condenser主要的功能在於先处理高融点的VOC，以利後段沸石转轮处理其它低融点之VOC(图四)。ACT 690 Condenser组成包括：● Filter：过滤来自设备排放的杂质；● Cooler：一种利用热交换浓缩冷凝气态有机化合物的设备，是以5蚓冰水将部份高融点气态 VOC冷凝下来便於收集处理；● Exchanger：此热交换器是一节能装置，将冷凝後的低温废气再与入口的高温废气先做热交换後，才到cooler再冷凝；● Carbon absorber：ACT 690浓缩後的气态VOC本体有很浓的臭味，因此设有活性碳吸附器carbon absorber去除部份臭味。#f#图四：ACT 690 Condenser

芯源微：5月19日尾盘消息，芯源微最新报价132.09元，涨5.12%，3日内股价上涨5.86%；今年来涨幅下跌-30.19%，市盈率为144.11。

芯源微总股本8400股，流通A股4360.48股，每股收益0.92元。

公司主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售，产品包括光刻工序涂胶显影设备（涂胶/显影机、喷胶机）和单片式湿法设备（清洗机、去胶机、湿法刻蚀机），可用于8/12英寸单晶圆处理（如集成电路制造前道晶圆加工及后道先进封装环节）及6英寸及以下单晶圆处理（如化合物、MEMS、LED芯片制造等环节）。公司生产的前道涂胶显影设备通过在客户现场的验证与改进，已陆续获得了株洲中车、青岛芯恩、上海积塔、宁波中芯、昆明京东方、厦门士兰等多个前道大客户的订单；前道SpinScrubber清洗机设备已在中芯国际、上海华力等多个客户处通过工艺验证；光刻工序涂胶显影设备与单片式湿法设备已作为主流机型应用于台积电、长电科技、华天科技、通富微电、晶方科技、华灿光电、干照光电、澳洋顺昌等国内一线大厂。公司于2021年6月11日晚发布2021年度向特定对象发行A股股票预案，拟向不超35名特定投资者发行不超2520万股，募资不超10亿元用于上海临港研发及产业化项目、高端晶圆处理设备产业化项目（二期）和补充流动资金。上海临港研发及产业化项目总投资6.4亿元，建成后用于研发与生产前道ArF光刻工艺涂胶显影机、浸没式光刻工艺涂胶显影机及单片式化学清洗机等高端半导体专用设备。高端晶圆处理设备产业化项目（二期）总投资2.9亿元，达产后主要用于前道I-line与KrF光刻工艺涂胶显影机、前道Barc（抗反射层）涂胶机以及后道先进封装Bumping制备工艺涂胶显影机。

江丰电子：5月19日消息，江丰电子5日内股价上涨0.81%，该股最新报57.47元涨2.99%，成交1.35亿元，换手率1.3%。

公司总股本2.24万股，流通A股1.36万股，每股收益0.47元。

2019年年报披露，在半导体材料领域，溅射靶材销售持续增长，市场份额得以保持和进一步提升，已经成为台积电、中芯国际、海力士、联华电子等客户的主要供应商。

卓胜微：5月19日消息，卓胜微最新报价198.7元，3日内股价上涨2.46%；今年来涨幅下跌-70.13%，市盈率为30.62。

公司总股本3.34万股，流通A股1.91万股，每股收益6.42元。

公司作为芯片设计厂商不直接参与晶圆生产、封测等芯片生产制造过程，为了保证产品的良率与供货能力，公司与全球顶级的晶圆制造商、芯片封测厂商形成紧密合作，晶圆制造商包括TowerJazz、台积电、台联电等，芯片封测厂商包括苏州日月新(日月光与恩智浦合资成立的封测厂)、嘉盛、通富微电等。

汉钟精机：5月19日消息，汉钟精机最新报价16.57元，3日内股价下跌0.87%；今年来涨幅下跌-62.92%，市盈率为17.82。

汉钟精机总股本5.35万股，流通A股5.31万股，每股收益0.91元。

2020年5月8日互动平台回复：公司真空泵产品在台湾和大陆均有销售，台湾客户有台积电、力积电、日月光、力成等，大陆客户因涉及商业信息，暂无法告知。公司真空泵产品完全具有替代进口产品的优势，且有部分大陆半导体厂商在陆续下单。

中微公司：5月19日尾盘消息，中微公司7日内股价上涨3.64%，最新涨1.34%，报112元，换手率0.98%。

公司总股本6.15万股，流通A股2.45万股，每股收益1.76元。

在介质刻蚀设备领域获得了国际一流客户以及本土存储厂商的高度认可，刻蚀设备陆续通过了台积电7nm/5nm制程的工艺验证。

---