半导体的生产流程

半导体的生产流程,第1张

工件装夹→去油→清洗→酸洗→清洗→氧化→清洗→皂化→热水煮洗→检查。

(1)工件装夹:要根据工件的形状、大小,设计专门的夹具或吊具。目的是使工件之间留有足够的间隙,工件间不能相互接触,要使每个工件都能完全浸入氧化液中被氧化。

(2)去油:目的是除去工件表面的油污。经过机加工后(发蓝、发黑是最后一道工序),工件表面难免不留下油污,用防锈油作工序间防锈的更是这样。任何油污,都会严重影响四氧化三铁的生成,所以必须在发蓝、发黑之前除去。常用的除油溶液配方。

(3)酸洗:酸洗的目的是除去工件表面的锈迹。因为锈迹、锈斑会阻碍生成致密的四氧化三铁层。即使工件无锈迹,也应进行酸洗,因为它使油污进一步去除干净,而且酸洗会提高工件表面分子的活化能,有利于下一工序的氧化,能生成较厚的四氧化三铁层。

酸洗溶液一般是10~15%浓度的硫酸溶液,温度是70~80℃,将工件浸入硫酸溶液中,浸入时间为30min左右,锈蚀较轻的钢件可浸20min,锈蚀严重者,则需要浸40min以上。

(4)氧化:氧化是发蓝、发黑的主要工序。四氧化三铁膜层是否致密、是否光滑、是否有足够的厚度,取决于氧化阶段。

扩展资料:

氧化工艺的意义

在化学工业生产中占有非常重要的地位,用于许多化合物的制备:

1、硫化铁氧化成二氧化硫,再将二氧化硫氧化成三氧化硫,以制备硫酸。

2、氮氧化成一氧化氮(以铂作为催化剂),再将一氧化氮氧化成二氧化氮以制备硝酸。

3、磷氧化成五氧化二磷制备磷酸。

4、乙烯氧化生成环氧乙烷。

5、甲醇氧化被夺去氢生成甲醛。

6、氯化氢氧化被夺去氢生成氯气和水。

7、用氯气给自来水消毒。

8、集成电路制造中的一道重要工艺流程 。

参考资料来源:百度百科-氧化


欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出

原文地址: http://outofmemory.cn/dianzi/8721579.html

(0)
打赏 微信扫一扫 微信扫一扫 支付宝扫一扫 支付宝扫一扫
上一篇 2023-04-20
下一篇 2023-04-20

发表评论

登录后才能评论

评论列表(0条)

保存