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cvd:Chemical Vapor Deposition 化学气相沉积,众多薄膜沉积技术中的一种。pvd:(Vapor ),指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。ALD:原子层沉积。拓展由于低温沉积、薄膜纯度以及绝佳覆盖率等固有优点,ALD(原子层淀积)技术早从21世纪初即开始应用于半导体加工制造。DRAM电容的高k介电质沉积率先采用此技术,但近来ALD在其它半导体工艺领域也已发展出愈来愈广泛的应用。CVD设备是芯片制造薄膜沉积工艺的核心设备,全球市场主要由国外厂商垄断,国产替代需求强烈。”有行业内人士表示。招商证券也在研报中提出,薄膜沉积设备被海外AMAT、LAM、TEL、ASM等龙头垄断。同时,相较于清洗等其他设备,薄膜沉积市场空间更大,国内有望因此涌现出较大的成长空间。具体情况要具体分析。半导体厂一般会有有毒有害的物质,但不等于一定会有,也不等于每个设备都有。重点要看你所维修的设备是什么。一般的MOCVD是有毒的。另外,就是维修过程一定要注意自我防护,规定穿戴防毒面具的一定不要省略,一般应带橡胶手套。经验上处理腐蚀性物质时,带双层手套。至于辐射呢,一般没有电离辐射,电磁辐射多出现在有等离子体的设备上(比如磁控溅射,ICP刻蚀,PECVD等等)。最后说说我身边的经验。1、我们这有个学生,因为害怕有毒物质,坚决拒不遵守导师要求,拒不做实验。结果一年后,体检血砷含量,全实验室都没问题,就她自己砷超标。这个事情说明,接触砷等有害物质,并非仅仅通过正常的实验和工作。而正常的工作中严格防护也是非常安全的。2、我们这有的导师,经常维修MOCVD设备,接触有毒的管路,但他本人从不注意防护,这么多年过去了也没啥事儿啊。说明:设备带有有毒粉末并不可怕,粉末状的毒物如三氧化二砷,其危险性已经较低了(比起砷烷类气态化合物)。同时,砷烷等危险品是有气瓶保护的,外面还有毒气柜,还有一堆报警设备。这个要是泄漏了,第一时间跑就是了。反正报警的阈值非常低,报警后再跑来得及的……3、都说辐射如何有害,影响男性生殖。但是事实是本人维修使用磁控溅射多年了。现在也有了小孩。没啥事儿啊。同事中结婚的打算要孩子的都成功了……男性功能和这个关系不大,精子活性普遍降低的影响更大,和60年代DDT使用、环境污染,现在生活压力大等等的关系更大些。综上,工作中注意保护,严格遵守安全制度(别管它都么的麻烦,别人多麽的不遵守),就是安全的。出危险的概率比起回家途中被车撞死要低多了……祝你工作顺利愉快。
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半导体中cvd pvdALD什么
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